文献

J-GLOBAL ID：202202225823850854   整理番号：22A1047744

多結晶シリコンウエハの配向,表面形態,不純物濃度および反射率の研究【JST・京大機械翻訳】

Investigation of orientation, surface morphology, impurity concentration and reflectivity of the multi-crystalline silicon wafers

著者 (7件)： Durairaj Sivaraj (SSN Research Centre, Sri Sivasubramaniya Nadar College of Engineering, Chennai, 603110, India) ,  Kesavan V. (SSN Research Centre, Sri Sivasubramaniya Nadar College of Engineering, Chennai, 603110, India) ,  Kesavan V. (Department of Electronics, St Joseph’s College (Autonomous), Tiruchirappalli, 620002, India) ,  Keerthivasan T. (SSN Research Centre, Sri Sivasubramaniya Nadar College of Engineering, Chennai, 603110, India) ,  Avinash Kumar M. (SSN Research Centre, Sri Sivasubramaniya Nadar College of Engineering, Chennai, 603110, India) ,  Srinivasan M. (SSN Research Centre, Sri Sivasubramaniya Nadar College of Engineering, Chennai, 603110, India) ,  Ramasamy P. (SSN Research Centre, Sri Sivasubramaniya Nadar College of Engineering, Chennai, 603110, India)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 282  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多結晶シリコン(mc-シリコン)インゴットを方向性凝固(DS)法を用いて成長させた。成長したインゴットをスライスし,ウエハ中の結晶粒方位,粒径,表面形態,不純物濃度を調べた。カットしたままのウエハのXRDパターンは,成長したインゴット中により多くの(111)配向面の形成を示した。走査電子顕微鏡画像は,スライスしたウエハの化学エッチング後,ウオーム状溝の形成を示した。FTIRスペクトルは,上部ウエハ上のより高い炭素濃度と底部ウエハでのより高い酸素濃度を示した。中央煉瓦の中心ウエハでは,計算した炭素と格子間酸素濃度の結果は,それぞれ4.740×1016と1.369×1017原子/cm3を示した。炭素と酸素の不純物濃度をシミュレーション結果で検証した。反射スペクトルは,周辺煉瓦と比較して,中央煉瓦からスライスしたウエハに対する低い反射率を明らかにした。インゴットの中心部分における中間ウエハの非常に少ない不純物濃度と低い反射率の存在は光吸収を強化し,これは光起電力エネルギー発生に有益である。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  シミュレーション ,  *反射率 ,  *表面構造 ,  *不純物 ,  酸素 ,  炭素 ,  煉瓦 ,  インゴット ,  *多結晶 ,  結晶粒 ,  *ウエハ【IC】 ,  *モルフォロジー ,  *不純物濃度 ,  *ポリシリコン
準シソーラス用語： *表面形態 ,  *シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 多結晶シリコン ,  数値シリコン ,  エッチング ,  反射率 ,  不純物

分類 (1件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (7件)： 多結晶シリコン ,  ウエハ ,  配向 ,  表面形態 ,  不純物濃度 ,  反射率 ,  研究