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J-GLOBAL ID：202202226508598554   整理番号：22A0891854

イオンビームスパッタTiO_2/Ag/TiO_2多層薄膜の光学的および電気的性質に及ぼすAg層厚の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of Ag layer thickness on optical and electrical properties of ion-beam-sputtered TiO₂/Ag/TiO₂ multilayer thin film

著者 (3件)： Singh Rajan (Department of Physics, Birla Institute of Technology, Ranchi, India) ,  Gupta Mukul (UGC-DAE Consortium for Scientific Research, Indore, India) ,  Mukherjee S. K. (Department of Physics, Birla Institute of Technology, Ranchi, India)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 33  号： 9  ページ： 6942-6953  発行年： 2022年 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiO_2/Ag/TiO_2多層膜を,異なるAg厚みのイオンビームスパッタリング法により堆積した。3層フィッティングモデルを用いたX線反射率法を用いて,多層膜の厚さ,密度および粗さを計算した。XRDとRamanデータのGaussフィッティングを用いて膜の結晶成長を検出し,一方FTIRデータは膜中の金属層の存在を確認した。微結晶サイズの減少に起因するフォノン閉込め効果は,いくつかのRaman活性モードにおける青方偏移でも観察された。TiO_2/Ag/TiO_2透明導電性酸化物に関する既報の研究との比較研究を含めて,多層膜の光学的および電気的特性に及ぼすAg層厚の影響を提示した。可視光領域(550nm)における多層膜の透過率は,Ag厚さの増加とともに65から81%に増加した。これらの膜のTaucプロットから計算したバンドギャップはBurstein-Moss効果に従った。シート抵抗は15.41から5.92Ω/□に減少し,一方,キャリア濃度と移動度は,Ag中間層厚さの増加と共に,それぞれ5.94×1021から1.35×1022と6.83から13.72cm2/Vsへ増加傾向を示した。Merit(FOM)のHaacke図は7.9×10-3Ω-1と記録された。Copyright The Author(s), under exclusive licence to Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2022 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  移動度 ,  結晶成長 ,  微結晶 ,  フォノン ,  *銀 ,  キャリア密度 ,  *多層膜 ,  透過率 ,  青方偏移 ,  *層厚 ,  *イオンビームスパッタリング ,  シート抵抗 ,  バンドギャップ ,  FTIR分光法

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (6件)： イオンビームスパッタ ,  Ag ,  多層薄膜 ,  光学 ,  電気的性質 ,  層厚