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J-GLOBAL ID：202202228783544536   整理番号：22A1081806

エチレングリコールの有無による電気化学的ニッケル堆積プロセスのその場蛍光収率軟X線吸収分光法【JST・京大機械翻訳】

In situ fluorescence yield soft X-ray absorption spectroscopy of electrochemical nickel deposition processes with and without ethylene glycol

著者 (9件)： Yamaguchi Akinobu (Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo, 3-1-2 Kouto, Kamigori, Hyogo 678-1205, Japan. [e-mail]) ,  Akamatsu Naoya ,  Saegusa Shunya ,  Nakamura Ryo ,  Utsumi Yuichi ,  Kato Masaru ,  Yagi Ichizo ,  Ishihara Tomoko ,  Oura Masaki
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 12  号： 17  ページ： 10425-10430  発行年： 2022年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 白金電極における電気化学的Ni析出を,電位制御下のNi L_2,3端およびO K端領域における蛍光収率ソフトX線吸収分光法(FY-XAS)を用いてエチレングリコール(EG)の存在下および非存在下でめっきニッケル浴中で調べた。≦+0.35V vs.可逆水素電極(RHE)で,電気化学的Ni堆積は,EGの存在下でNi L_2,3端FY-XASにより検出されたが,EG不在ではそのような事象はほとんど観察されなかった。O K端領域におけるFY-XAS強度の劇的な減少も,>+0.35V vs.RHEでのEGの存在下で観察され,水分子の除去によって開始されたナノ/微細構造Ni堆積がPt電極上で起こることを示唆した。Ni2+とEGとの錯体生成とNi表面へのEGの吸着はNi堆積に重要な役割を果たす。本研究は,in situ FY-XASが,固体-液体界面でのポリオール合成と電極触媒を含む(電気)化学反応を理解するための強力で表面感受性の技術であることを示した。Copyright 2022 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  *蛍光 ,  析出 ,  電位 ,  *軟X線 ,  電極 ,  *ニッケル ,  白金 ,  めっき ,  電極触媒 ,  *電気化学 ,  白金電極 ,  *X線吸収分光法 ,  ポリオール ,  脂肪族アルコール ,  ジオール

分類 (4件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  二次電池  (YB04030K) ,  太陽電池  (NC03084O) ,  電極過程  (CB07040U)

物質索引 (1件)： エチレングリコール

タイトルに関連する用語 (9件)： エチレングリコール ,  電気化学 ,  ニッケル ,  堆積 ,  プロセス ,  蛍光 ,  収率 ,  軟X線 ,  吸収分光法