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J-GLOBAL ID：202202229902569952   整理番号：22A0884752

室温原子層堆積法を用いた水蒸気ガスバリア膜の試作と評価

著者 (5件)： 吉田一樹 (山形大 大学院理工学研究科) ,  齋藤健太郎 (山形大 大学院理工学研究科) ,  三浦正範 (山形大 大学院理工学研究科) ,  鹿又健作 (山形大 大学院理工学研究科) ,  廣瀬文彦 (山形大 大学院理工学研究科)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告(Web)  (IEICE Technical Report (Web))
巻： 121  号： 387(CPM2021 71-85)  ページ： 7-10 (WEB ONLY)  発行年： 2022年02月22日 
JST資料番号： U2030A  ISSN： 2432-6380  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 室温原子層堆積法(室温ALD)を用いて作製した水蒸気ガスバリア膜について発表する。水蒸気ガスバリア膜は有機エレクトロニクスデバイスの劣化防止,長寿命化に必須といわれている。現在は固く,折り曲げができないガラスを用いて素子を封止して寿命を確保しているが,この方法ではフレキシブルデバイスへの応用ができない。フレキシブル化のために金属酸化物薄膜を用いたガスバリア封止技術が検討されている。Al₂O₃は高いガスバリア性を示し,成膜が容易な酸化膜として注目されているが成膜温度を下げると性能が十分でないという問題があった。そこで我々は複数の酸化膜を複合することで低温成膜した場合であっても高いガスバリア性を得ることができるのではないかと予想し,Al₂O₃,TiO₂,ZnOを組み合わせてガスバリアコーティングを行った。本発表では室温(25°C)ALDを用いて厚さ100nm程度の膜をフィルムに直接形成した際のガスバリア性について報告する。また異種酸化膜の組み合わせによる水蒸気ガスバリア膜性能へ影響を議論し,フレキシブルエレクトロニクスへの応用可能性を議論する。(著者抄録)

シソーラス用語： 化学蒸着 ,  単原子層 ,  *水蒸気 ,  *ガスバリヤ性 ,  フレキシブル基板 ,  *酸化膜 ,  寿命延長 ,  酸化アルミニウム ,  酸化チタン ,  酸化亜鉛 ,  透過型電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (9件)：

• 永井一清 , 黒田俊也 , 山田泰美, 狩野賢志 , 宮嶋秀樹, 最新バリア技術-バリアフィルム, バリア容器, 封止材・シーリング材の現状と展開-《普及版》, シーエムシー出版, 東京, 2018.
• 中山弘, 小川倉一, 最新ガスバリア薄膜技術-ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて-《普及版》, シーエムシー出版, 東京, 2017.
• M. Degai, K. Kanomata, K. Momiyama, S. Kubota, K. Hirahara, and F. Hirose, “Non-heating atomic layer deposition of SiO2 using tris(dimethylamino)silane and plasma-excited water vapor,” Thin Solid Films,525, 73-76, December 2012.
• K. Kanomata, P. P. Pansila, H. Ohba, B. Arima, S. Kubota. K. Hirahara, and F. Hirose, ” リモートプラズマを用いたアルミナ室温原子層堆積プロセスと表面反応過程評価 ”, IEICE Trans. Electron. (Japanese edition), J98-C, pp.1-7, 2015.
• K. Kanomata, P. Pansila, B. Ahmmad, S. Kubota, K. Hirahara, and F. Hirose, “Infrared study on room-temperature atomic layer deposition of TiO₂ using tetrakis(dimethylamino)titanium and remote-plasma-excited water vapor”, Appl. Surf. Sci. 308, 328-332,2014.

タイトルに関連する用語 (6件)： 室温 ,  原子層堆積法 ,  水蒸気 ,  ガスバリア膜 ,  試作 ,  評価