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J-GLOBAL ID:202202231974039994   整理番号:22A0590923

プラズマスパッタリング反応蒸着によるg-C_3N_4ナノコーンの成長に対する実験条件の影響【JST・京大機械翻訳】

Effects of experimental conditions on the growth of g-C3N4 nanocones by plasma sputtering reaction deposition
著者 (7件):
資料名:
巻: 15  号:ページ: 2251004  発行年: 2022年 
JST資料番号: W2401A  ISSN: 1793-6047  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: シンガポール (SGP)  言語: 英語 (EN)
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G-C_3N_4は可視光スペクトルで光触媒水素発生特性を持ち,近年広く研究されている。本論文では,結晶g-C_3N_4ナノコーンを,異なる基板前処理および真空アニーリング条件下でプラズマスパッタリング反応性蒸着によりシリコンウエハ上に調製した。光ルミネセンス(PL)分光法の結果は,シリコンウエハのための種々の前処理方法と条件がナノコーンの成長に影響を及ぼすことを示した。シリコンウエハの表面粗さが適切であるときのみ,完全形状および中程度の密度を有する良好な結晶性g-C_3N_4ナノコーンが得られた。さらに,異なるアニーリング温度もナノコーンの構造に影響し,高すぎるアニーリング温度もそれらを破壊する。Copyright 2022 World Scientific Publishing Company All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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セラミック・陶磁器の製造  ,  セラミック・磁器の性質 
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