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J-GLOBAL ID:202202239507187147   整理番号:22A0943567

ナノ構造Ruナノドット0_x-RuO_2±nH_2O薄膜のSILD調製:電極触媒特性に及ぼす堆積サイクルの影響【JST・京大機械翻訳】

SILD-preparation of nanostructured Ru0 x-RuO2・nH2O thin films: Effect of deposition cycles on electrocatalytic properties
著者 (3件):
資料名:
巻: 48  号:ページ: 11672-11677  発行年: 2022年 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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Ru0_x-RuO_2・nH_2Oナノ複合薄膜を,容易で正確な逐次イオン層堆積(SILD)によりニッケル表面に初めて合成した。RuCl_3とNaBH_4の水溶液を合成の試薬として用いた。10~60のSILDサイクルの結果として合成した薄膜は,約100nmの平面サイズと5~9nmのサイズを有するRu0ナノ粒子を有する水和Ru(IV)酸化物の平坦な小球により形成されることを示した。得られた実験データに基づいて,合成中の基質表面で生じる化学反応のシーケンスを設計した。薄膜の電気化学的性質の研究は,10,20,40および60のSILDサイクルの結果として合成したRu0_x-RuO_2・nH_2O層を有するニッケルフォーム電極が,アルカリ媒体中での水電解中の水素発生反応で,それぞれ,49,36,32および31mVに等しい10mA/cm2およびTafel勾配値で,それぞれ,49,36,32および31mVに等しい過電圧値を示したことを示した。これらの値の比較は,40と60のSILDサイクル後に合成した試料の過電圧とTafel勾配の値はほぼ等しいが,40のSILDサイクル後に得られた試料は少量の電極触媒を含み,組成及び電極触媒特性に関して最適として後者の試料を選択することを可能にした。サンプルの過電圧値は500電位サイクル後に4mVだけ増加し,これはその特性の比較的高い安定性を示した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
光化学一般  ,  セラミック・磁器の性質  ,  静電機器 

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