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J-GLOBAL ID：202202239539674962   整理番号：22A0229991

高周波マグネトロンスパッタリングにより堆積した酸化銅薄膜に及ぼす酸素流量効果【JST・京大機械翻訳】

Oxygen flow rate effect on copper oxide thin films deposited by radio frequency magnetron sputtering

著者 (4件)： Tadjine Rabah (CDTA, Cite du 20 Aout 1956, BP N°17 Baba-Hassen, 16303 Algiers, Algeria) ,  Houimi Amina (University USTHB, BP32 El Alia 16111 Bab Ezzouar, Algiers, Algeria) ,  Alim Mohamed Mounes (CDTA, Cite du 20 Aout 1956, BP N°17 Baba-Hassen, 16303 Algiers, Algeria) ,  Oudini Noureddine (CDTA, Cite du 20 Aout 1956, BP N°17 Baba-Hassen, 16303 Algiers, Algeria)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 741  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化銅薄膜を高周波マグネトロンスパッタリング技術によって調製した。X線回折(XRD),分光法および電気抵抗率測定による堆積膜の解析を行った。結果は,作動圧力とO_2流量が酸化銅膜特性に重要な影響を与えることを示した。主な酸化銅CuOおよび/またはCu_2O相の応用は,主にO_2流量の実験的なプラズマパラメータに影響される。XRDパターン上の多重ピークの存在は,堆積した膜の多結晶性を示した。より高いO_2流量では,結晶化したCuOから成る単相が形成される。一方,より低いO_2流量では膜は2相(CuOとCu_2O)であった。O_2流量の関数としての光学発光分光法によるプラズマ放電の研究は,与えられた圧力と電源で,正しい化学量論と相を調整するための最良の操作範囲を見つけるのに不可欠であり,従って,特定の用途のための好ましい特性を与える。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  結晶化 ,  *酸化 ,  電気抵抗率 ,  *薄膜 ,  *流量 ,  X線回折分析 ,  *酸化銅 ,  多結晶 ,  化学量論 ,  多重化 ,  プラズマパラメータ ,  単相 ,  酸化第二銅
準シソーラス用語： *RFマグネトロンスパッタリング ,  *銅薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 薄膜 ,  酸化銅 ,  反応性マグネトロンスパッタリング ,  発光分光法

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高周波マグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  酸化 ,  銅薄膜 ,  酸素流量