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J-GLOBAL ID：202202241137665863   整理番号：22A1161820

種々のナノ材料のスパッタリング挙動評価のためのガスクラスタイオンビームを備えたX線光電子分光法【JST・京大機械翻訳】

X-ray Photoelectron Spectroscopy Equipped with Gas Cluster Ion Beams for Evaluation of the Sputtering Behavior of Various Nanomaterials

著者 (8件)： Chang Hsun-Yun (Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan) ,  Lin Wei-Chun (Department of Photonics, National Sun Yat-Sen University, Taiwan) ,  Chu Po-Chih (Department of Photonics, National Sun Yat-Sen University, Taiwan) ,  Wang Yi-Kai (Department of Photonics, National Sun Yat-Sen University, Taiwan) ,  Sogo Mauo (Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan) ,  Iida Shin-ichi (Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan) ,  Peng Chien-Jung (Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan) ,  Miyayama Takuya (Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan)
資料名： ACS Applied Nano Materials  (ACS Applied Nano Materials)
巻： 5  号： 3  ページ： 4260-4268  発行年： 2022年 
JST資料番号： W5033A  ISSN： 2574-0970  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 深さプロファイリングのためのイオンビーム種とパラメータの選択は,正確な深さ情報を得る経験と多様なサンプルに関する効率的なスパッタ速度を必要とする。化学状態と組成の変化を引き起こすスパッタ損傷を避けるべきである。単原子イオンビーム源は金属と無機物の迅速なスパッタリングに通常利用されるが,高酸化金属酸化物と有機物へのスパッタ損傷はよく知られている。クラスタイオンビームは,有機物に対する低損傷のそれらの能力のため,ソフト材料のために近年普及しているが,金属と無機材料のスパッタ収率は非常に低い。現在,半導体デバイスの材料特性と構造は,急速な技術開発のため,より複雑になった。したがって,金属/無機/有機体を含むハイブリッドアーキテクチャを有する試料のより多くのスパッタリング法を探求する必要がある。最近,小さなクラスタサイズを有するガスクラスタイオンビーム(GCIB)が,単原子イオンビームと従来の大クラスタGCIB(>Ar_2000+)の両方の利点を有する方法の1つであると考えられた。より小さなクラスタGCIBは,単原子イオンビームのそれに類似のスパッタリング挙動で原子当たりのより高いエネルギーをもたらし,金属と無機層におけるスパッタ収率の増強をもたらす。しかし,深さプロファイリング中のX線光電子分光法(XPS)化学状態分析に対するクラスタサイズ選択の議論は,むしろ限られている。本研究では,GCIBクラスタ測定キットを開発し,XPSシステムに設置した。各GCIB設定のクラスタサイズの実際の分布を深さプロファイリングの前に測定できた。一連のクラスタサイズを有するGCIBを用いた深さプロファイリングを行い,スパッタ収率を調べ,種々の有機,無機およびハイブリッドナノ材料に対するスパッタ効果を評価した。結果はまた,異なるクラスタサイズ(Ar_500-2000+)を有するGCIBの異なるスパッタリング挙動を示す。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *イオンビーム ,  酸化 ,  半導体素子 ,  無機質 ,  *クラスタ ,  損傷 ,  スパッタ蒸着 ,  *X線光電子分光法 ,  深さプロフィル ,  *ナノ材料
準シソーラス用語： *クラスタイオンビーム ,  化学状態 ,  単一原子 ,  *ガスクラスターイオンビーム ,  クラスタサイズ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 表面分析 ,  GCIB ,  制御可能なガスクラスタ ,  クラスタサイズ測定 ,  XPS ,  深さプロファイリング ,  スパッタ損傷の低減

分類 (2件)： 電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (6件)： ナノ材料 ,  スパッタリング ,  挙動 ,  評価 ,  ガスクラスタイオンビーム ,  X線光電子分光法