Chang Hsun-Yun について
Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan について
Lin Wei-Chun について
Department of Photonics, National Sun Yat-Sen University, Taiwan について
Chu Po-Chih について
Department of Photonics, National Sun Yat-Sen University, Taiwan について
Wang Yi-Kai について
Department of Photonics, National Sun Yat-Sen University, Taiwan について
Sogo Mauo について
Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan について
Iida Shin-ichi について
Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan について
Peng Chien-Jung について
Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan について
Miyayama Takuya について
Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan について
ACS Applied Nano Materials について
イオンビーム について
酸化 について
半導体素子 について
無機質 について
クラスタ について
損傷 について
スパッタ蒸着 について
X線光電子分光法 について
深さプロフィル について
ナノ材料 について
クラスタイオンビーム について
化学状態 について
単一原子 について
ガスクラスターイオンビーム について
クラスタサイズ について
表面分析 について
GCIB について
制御可能なガスクラスタ について
クラスタサイズ測定 について
XPS について
深さプロファイリング について
スパッタ損傷の低減 について
電子ビーム,イオンビーム について
電子ビーム・イオンビームの応用 について
ナノ材料 について
スパッタリング について
挙動 について
評価 について
ガスクラスタイオンビーム について
X線光電子分光法 について