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J-GLOBAL ID:202202246284473627   整理番号:22A1160808

化学蒸気輸送によるSi/SiO_2基板上の(Bi_xSb_1-x)_2Te_3ナノシートの直接堆積【JST・京大機械翻訳】

Direct Deposition of (BixSb1-x)2Te3 Nanosheets on Si/SiO2 Substrates by Chemical Vapor Transport
著者 (13件):
資料名:
巻: 22  号:ページ: 2354-2363  発行年: 2022年 
JST資料番号: W1323A  ISSN: 1528-7483  CODEN: CGDEFU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ビスマスとアンチモン(Bi_2Te_3とSb_2Te_3)のテルル化物は,有望なトポロジー特性を示すV_2VI_3材料族の顕著なメンバーである。これらの材料((Bi_xSb_1-x)_2Te_3とx=0.1,..,0.9)の混合結晶の,ボトムアップ化学気相輸送(CVT)アプローチによる合理的な合成法を提案した。熱力学計算は,合成が390-560°Cの温度範囲において,成分の著しい濃縮と輸送剤の添加なしで可能であることを示した。出発物質を合成し,X線回折(XRD)によって検証した。最適化実験は,ナノシート合成の理想条件がT_2=560°C,T_1=390°C,反応時間t=36hであることを示した。高さ12nm(12の五重層)の結晶を合成し,走査電子顕微鏡,エネルギー分散X線分光および原子間力顕微鏡により分析した。高分解能透過型電子顕微鏡は,合成した(Bi_xSb_1-x)_2Te_3ナノシートのR3m結晶構造,高い結晶性,および全体品質を確認した。磁気輸送測定から,このような三元化合物は,二元親化合物と比較して,キャリア密度を著しく低下させることが分かった。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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原子・分子のクラスタ  ,  塩 

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