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J-GLOBAL ID:202202246905870048   整理番号:22A0977398

5nm技術ノード設計,最適化,性能評価におけるカーボンナノチューブSRAM 第1部:CNFETトランジスタの最適化【JST・京大機械翻訳】

Carbon Nanotube SRAM in 5-nm Technology Node Design, Optimization, and Performance Evaluation-Part I: CNFET Transistor Optimization
著者 (12件):
資料名:
巻: 30  号:ページ: 432-439  発行年: 2022年 
JST資料番号: W0516A  ISSN: 1063-8210  CODEN: ITCOB4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,性能,安定性および電力効率の間のトレードオフに基づいて最適化された5nm技術ノードにおけるカーボンナノチューブ(CNT)電界効果トランジスタ(CNFET)ベースの静的ランダムアクセスメモリ(SRAM)設計を提案した。サイズ最適化に加えて,CNT密度,CNT直径,およびCNFETフラットバンド電圧を含む物理モデルパラメータを評価し,CNFET SRAM性能改善のために最適化した。最適化したCNFET SRAMを,Arizona状態大学[ASAP7nm FinFET予測技術モデル(PTM)]ライブラリに基づく最先端の7nm FinFET SRAMセルと比較した。提案したCNFET SRAMセルの読取,書き込みEDP,および静的電力は,FinFET SRAMセルと比較して,それぞれ67.6%,71.5%,および43.6%改善され,わずかに良い安定性を有することを見出した。CNFET SRAMセル内部と内部の両方でのCNT相互接続は,本論文のパートIIで議論される全炭素ベースSRAM(ACS)アレイを構成すると考えられる。銅配線を有する7nmFinFET SRAMセルを実装し,比較のために用いた。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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半導体集積回路 

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