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J-GLOBAL ID：202202254523340058   整理番号：22A1114699

溶融ガラスの化学機械研磨中のち密化除去機構の原子的理解【JST・京大機械翻訳】

Atomic understanding of the densification removal mechanism during chemical mechanical polishing of fused glass

著者 (3件)： Liu Wei (Key Laboratory for Precision and Non-Traditional Machining Technology of Ministry of Education, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China) ,  Yuan Song (Key Laboratory for Precision and Non-Traditional Machining Technology of Ministry of Education, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China) ,  Guo Xiaoguang (Key Laboratory for Precision and Non-Traditional Machining Technology of Ministry of Education, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 591  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 溶融ガラス内部の多数のボイドは,加工中の緻密化に非常に敏感になり,溶融ガラスの適用を劇的に妨げる。現在まで,溶融ガラスの緻密化除去機構を解明する大きな挑戦である。ここでは,摩擦誘起緻密化に基づく溶融ガラスの局所緻密化を確立し,ReaxFF分子動力学(MD)による化学機械研磨(CMP)プロセスを模倣した。緻密化領域(DA)と非緻密化領域(NDA)の間の不一致を調べ,緻密化損傷機構を原子スケールから詳しく説明した。結果は,DA中の高い原子密度が酸化反応を妨害し,親水性を弱くすることを示した。SiOH結合の少なさは表面に形成され,Hプロトンの浸透も弱くなった。低圧下で,原子は,緻密化の劣化なしに,短鎖と単一原子の形で効率的に除去された。それにもかかわらず,高圧下で,原子は,緻密化の劣化で,鎖,クラスタおよび環除去の形で効率的に除去された。さらに,緻密化の劣化はH_2O_2濃度の増加により抑制された。著者らのシミュレーションは,原子展望からの溶融ガラス緻密化研究に対する新しい洞察を提供する。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 高圧 ,  酸化 ,  陽子 ,  低圧 ,  親水性 ,  *緻密化 ,  クラスタ ,  機構 ,  分子動力学 ,  *化学機械研磨
準シソーラス用語： 原子密度 ,  原子スケール ,  単一原子 ,  ReaxFF , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 溶融ガラス ,  緻密化 ,  CMP ,  分子動力学

分類 (2件)： ガラスの製造  (YC02020O) ,  無電解めっき  (WC08024S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 溶融ガラス ,  化学機械研磨 ,  ち密化 ,  原子 ,  理解