パルスレーザー堆積法によるウルツ鉱型β-NaGaO<sub>2</sub>薄膜の作製

文献

J-GLOBAL ID：202202257245439128 整理番号：22A0262696

パルスレーザー堆積法によるウルツ鉱型β-NaGaO₂薄膜の作製

Fabrication of wurtzite-type β-NaGaO₂ thin film by pulsed laser deposition

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資料名：
巻： 33rd ページ： ROMBUNNO.2J25 発行年： 2020年08月17日
JST資料番号： L2240B 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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セラミック・磁器の性質 , 酸化物薄膜 , 半導体薄膜

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