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J-GLOBAL ID:202202258053160246   整理番号:22A0388994

MFIS負性容量FDSOI FETにおける負性微分抵抗を緩和するBOX工学:アナログ展望【JST・京大機械翻訳】

BOX engineering to mitigate negative differential resistance in MFIS negative capacitance FDSOI FET: an analog perspective
著者 (9件):
資料名:
巻: 33  号:ページ: 085203 (8pp)  発行年: 2022年 
JST資料番号: W0108A  ISSN: 0957-4484  CODEN: NNOTER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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今日まで,負の微分抵抗(NDR)の既存の理解を金属-ferro-金属-絶縁体-半導体(MFMIS)FETから得,MFMISと金属-ferro-絶縁体-半導体(MFIS)ベースのNCFETの両方に利用した。しかし,MFISアーキテクチャでは,強誘電性キャパシタンス(C_FE)は集中容量ではない。したがって,MFISの負容量(NC)デバイスでは,NDR機構を支配する物理的説明が必要である。本研究では,初めて,MFIS NC FDSOIにおけるNDR効果の第一原理説明を示した。ソース電圧(V_DS)に対するドレインによる出力電流変動(即ち,g_ds)は主に2つのパラメータに依存することを見出した:(a)V_DS依存反転電荷勾配(∂n/∂V_DS);(b)V_DS感受性電子速度(∂v/∂V_DS)とこれら2つの依存性の複合効果はNDRをもたらす。さらに,NDR効果を緩和するために,BOX工学NC FDSOI FETを提案し,その中で,埋込み酸化物(BOX)層を強誘電体(FE)層とSiO_2層に細分した。そうすることによって,チャネルにおける反転電荷はBOX工学FE層によって強化され,次にNDRを緩和し,最小正勾配を持つほぼゼロg_dsを得た。十分に較正されたTCADシミュレーションを通して,得られた正のg_dsを利用して,アナログ回路の重要な部分であるV_DS独立定電流ミラーを設計した。さらに,素子性能に及ぼすFEパラメータ(残留分極と抗電場)変化の影響を論じた。また,得られた結果をNCベースデバイスに関する既存の文献と比較し,提案した構造がNDRの完全な減少を示し,アナログ回路設計での使用を可能にすることを正当化した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固-液界面 

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