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J-GLOBAL ID：202202263525130066   整理番号：22A0262372

固体窒素源を用いたSr-Ta系酸化物前駆体薄膜の窒化

Nitridation of solution-process derived Sr-Ta oxide precursor thin film with solid nitrogen sources

著者 (5件)： 樋口亜門 (北大) ,  ROSERO-NAVARRO Nataly Calorina (北大) ,  三浦章 (北大) ,  鱒渕友治 (北大) ,  忠永清治 (北大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 33rd  ページ： ROMBUNNO.1G09  発行年： 2020年08月17日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化物 ,  *窒化物 ,  *薄膜 ,  *窒化 ,  栄養素 ,  硝酸ストロンチウム ,  *タンタル化合物 ,  *前駆体 ,  化学合成 ,  熱処理 ,  *ストロンチウム化合物 ,  ペロブスカイト型結晶 ,  液相合成 ,  *酸化物薄膜 ,  窒素源 ,  *オキシナイトライド ,  *改変 ,  エーテル ,  脂肪族アルコール ,  ジオール ,  窒素複素環化合物
準シソーラス用語： *酸窒化物

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (4件)： 2-メトキシエタノール ,  エチレングリコール ,  タンタルペンタエトキシド ,  メラミン

タイトルに関連する用語 (7件)： 固体窒素 ,  Sr ,  Ta ,  酸化物 ,  前駆体 ,  薄膜 ,  窒化