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J-GLOBAL ID:202202264679950399   整理番号:22A1101103

分割光遮蔽を用いた低温ポリシリコンTFTにおけるドレイン誘起障壁低下とキンク効果の抑制【JST・京大機械翻訳】

Suppressing Drain-Induced Barrier Lowering and Kink Effect in Low-Temperature Poly-Si TFTs Using a Partitioned Light Shield
著者 (13件):
資料名:
巻: 43  号:ページ: 576-579  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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異常なドレイン誘起障壁低下(DIBL)を,全光遮蔽(LS)構造を有するn型低温多結晶シリコン薄膜トランジスタ(LTPS TFT)で観察した。ドレイン電流対ゲート電圧曲線はドレインバイアスが増加するにつれて閾値電圧(V_TH)シフトとハンプ効果を示し,不飽和出力特性を示した。LTPS TFTsの固有結晶粒界と結晶粒突出のため,かなりの衝撃イオン化が発生し,従って,高電流で動作するとき,電子オレドホール対を生成し,浮遊体効果をもたらし,キンク効果の発生を与える。しかし,LSのカップリングポテンシャルのため,LSにより不飽和電流特性を誘導した。したがって,分割されたLS構造を提案して,DIBLをさらに改善し,キンク効果を弱めた。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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トランジスタ 

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