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J-GLOBAL ID：202202265939217483   整理番号：22A0433667

斜めイオンビームスパッタリングによるシリコンパターニングにおける金属供給経路の役割【JST・京大機械翻訳】

Role of the metal supply pathway on silicon patterning by oblique ion beam sputtering

著者 (13件)： Redondo-Cubero A. (Grupo de Electronica y Semiconductores, Departamento de Fisica Aplicada, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain) ,  Redondo-Cubero A. (Centro de Micro-Analisis de Materiales, Universidad Autonoma de Madrid, C/ Faraday 2, 28049 Madrid, Spain) ,  Palomares F.J. (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, 28049 Madrid, Spain) ,  Lorenz K. (Instituto Superior Tecnico, Universidade de Lisboa, Estrada Nacional 10, km 139.7, 2695-066 Bobadela LRS, Portugal) ,  Lorenz K. (Instituto de Engenharia de Sistemas e Computadores - Microsistemas e Nanotecnologia (INESC- MN), Rua Alves Redol 9, 1000-029 Lisboa, Portugal) ,  Rubio-Zuazo J. (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, 28049 Madrid, Spain) ,  Rubio-Zuazo J. (SpLine Spanish CRG Beamline at the ESRF, ESRF-BP 220-38043 Grenoble, Cedex, France) ,  Huebner R. (Institute of Ion Beam Physics and Materials Research, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, D-01328 Dresden, Germany) ,  Mompean F.J. (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, 28049 Madrid, Spain) ,  Garcia-Hernandez M. (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, 28049 Madrid, Spain) ,  Castro G.R. (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, 28049 Madrid, Spain) ,  Castro G.R. (SpLine Spanish CRG Beamline at the ESRF, ESRF-BP 220-38043 Grenoble, Cedex, France) ,  Vazquez L. (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, 28049 Madrid, Spain)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 580  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 40keVのFeイオンビームの斜め入射によるシリコン表面に誘起されたパターンの動力学を研究した。結果を,2つの参照システム,すなわち,Fe共蒸着の有無での希ガスイオンビームに対して得た結果と比較した。用いた技術は,原子間力顕微鏡,Rutherford後方散乱分光法,透過Electron顕微鏡,X線光電子分光法,および硬X線光電子分光法,ならびに超伝導量子干渉素子測定を含む。Fe誘起パターンは,短い六角形秩序を示すパターンがそれらといくつかの特徴を共有するにもかかわらず,両参照系のそれと異なる。両Fe系において,ケイ化鉄リッチおよび乏しい領域を有する化学パターンが,長時間照射で形成された。金属経路は,パターンの形態特性及び化学的及び形態学的パターン間の空間的相関に著しい影響を及ぼした。また,Fe注入系に対してより良い鉄ケイ化物化学量論と表面パターン磁気特性を決定した。これらの結果は,反応性金属によるイオンビーム誘起シリコン表面パターニングにおいて,金属供給経路が形態パターン特性だけでなく,化学的および磁気的ものを決定するのに重要であることを示した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *イオンビーム ,  希ガス ,  磁気的性質 ,  *ケイ素 ,  鉄 ,  磁気 ,  化学量論 ,  ケイ化物 ,  *イオンビームスパッタリング ,  X線光電子分光法 ,  *パターン形成 ,  原子間力顕微鏡 ,  同時蒸着 ,  モルフォロジー
準シソーラス用語： ケイ化鉄 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 表面ナノパターン形成 ,  イオンビームスパッタリング ,  シリコン ,  磁気特性 ,  シリサイド ,  鉄

分類 (2件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオンビームスパッタリング ,  シリコン ,  パターニング ,  経路 ,  役割