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J-GLOBAL ID:202202272859612814   整理番号:22A0912645

反応性直流マグネトロンスパッタリングにより蒸着した500~1000nm厚エレクトロクロミック酸化タングステン膜の着色と漂白特性【JST・京大機械翻訳】

Coloring and Bleaching Properties of 500-1000 nm-Thick Electrochromic Tungsten Oxide Films Deposited by Reactive Direct Current Magnetron Sputtering
著者 (4件):
資料名:
巻: 219  号:ページ: e2100646  発行年: 2022年 
JST資料番号: D0774A  ISSN: 1862-6300  CODEN: PSSABA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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反応性マグネトロンスパッタリングを用いて酸化インジウムスズ/ガラス基板上に非晶質酸化タングステン膜を調製し,それらのエレクトロクロミック(EC)特性を調べた。高密度に着色した膜を達成するために,厚さ500と1000nmの試料をAr3Pa雰囲気中で異なるポンピング速度と酸素流量で堆積した。蒸着したままの膜は同様に透明(≒80%)であるが,それらのEC特性は堆積条件および膜厚に強く依存する。500nm厚の試料は着色状態で4~8%の透過率を持ち,漂白状態で良好に回復した。対照的に,1000nm厚の膜は,着色状態で非常に低い透過率(<1%)を示したが,完全には回復しなかった。1000nm厚さの膜の中で,大きなポンピング速度と大きな酸素流量条件は,比較的良好な回復性をもたらす。500nm膜のサイクリックボルタモグラムは,小さくてバランスのとれた電荷移動を示し,一方,1000nm膜のそれらは,大きくて不均衡な電荷移動を示した。これらは,より多くのイオンが1000nmのサンプルにインターカレートされるが,完全には挿入されないことを示す。これらの知見は光遮蔽のためのEC応用の開発に寄与する。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜  ,  光物性一般  ,  半導体薄膜 

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