研究者
J-GLOBAL ID:200901048314885741   更新日: 2024年09月30日

中野 武雄

ナカノ タケオ | Nakano Takeo
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://surf.ml.seikei.ac.jp/~nakano/
研究分野 (2件): 応用物理一般 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (3件): 薄膜プロセス ,  スパッタリング ,  薄膜物性
競争的資金等の研究課題 (12件):
  • 2017 - 2020 デュアルターゲット型大電力パルススパッタによるプラズマ電位と薄膜構造の制御
  • 2012 - 2014 大電力パルススパッタにおけるパルスオフ期間のターゲット電位を用いた薄膜構造制御
  • 2009 - 2011 酸素フリーな金属窒化物の反応性スパッタ製膜過程の理解と電気物性への酸素混入の効果
  • 2007 - 2009 スパッタ粒子とガスの輸送過程を考慮した反応性スパッタプロセスモデルの構築
  • 1999 - 2000 高圧環境下のスパッタリング製膜過程におけるシミュレーションモデルの開発
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論文 (43件):
  • Takeo Nakano, Kosuke Kimura, Yuto Iijima, Masato Takeuchi, Kei Oya, Masayoshi Nagao, Hisashi Ohsaki. Linear Relationship between Reactive Gas Flow Rate and Target Power at Mode Transitions in Reactive Sputtering. e-Journal of Surface Science and Nanotechnology. 2024. 22. 3. 199-206
  • Md. Suruz Mian, Takeo Nakano, Kunio Okimura. Improvement of the uniformity of structural and electrical properties of transparent conductive Al-doped ZnO thin films by inductively coupled plasma-assisted radio frequency magnetron sputtering. Thin Solid Films. 2023. 769. 139752-139752
  • Md. Suruz Mian, Riko Yagi, Kei Oya, Takeo Nakano. Coloring and Bleaching Properties of 500-1000 nm-Thick Electrochromic Tungsten Oxide Films Deposited by Reactive Direct Current Magnetron Sputtering. physica status solidi (a). 2021. 2100646-2100646
  • 霜田 直宏, 小出 奈央, 本間 徹生, 中野 武雄, 張 晋, 脇田 英延, 里川 重夫. ジメチルスルフィド分解用 NiO/γ-Al2O3 触媒の活性サイトの局所構造解析-X線吸収分光分析を用いたNi種の硫化挙動-. 2020. 63. 6. 365-374
  • Katsuya Iuchi, Kei Oya, Kazuki Hosoya, Kazuki Sasaki, Yuko Sakurada, Takeo Nakano, Hisashi Hisatomi. Different morphologies of human embryonic kidney 293T cells in various types of culture dishes. Cytotechnology. 2020. 72. 1. 131-140
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MISC (32件):
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書籍 (9件):
  • 真空科学ハンドブック
    コロナ社 2018 ISBN:9784339009088
  • ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎
    コロナ社 2013 ISBN:9784339046311
  • ロールtoロール技術の最新動向
    シーエムシー出版 2011 ISBN:9784781303215
  • スパッタ実務[Q&A集]
    技術情報協会 2009 ISBN:9784861042768
  • 薄膜ハンドブック(第2版)
    オーム社 2008 ISBN:9784274205194
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講演・口頭発表等 (11件):
  • Application of triode HPPMS for fabrication of Spindt-type micro vacuum electron emitter array
    (HiPIMS Today 2024 2024)
  • 大電力パルススパッタ法によるスピント型陰極作製における放電ガス(アルゴン、クリプトン)の効果
    (電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス 2018)
  • 反応性スパッタにおけるモード遷移現象の普遍性と膜物性予測
    (表面科学学術講演会要旨集 2016)
  • 非蒸発ゲッタポンプ用合金膜のスパッタ製膜
    (表面科学学術講演会要旨集 2016)
  • 反応性スパッタで製膜したチタン酸化物薄膜の表面特性と細胞接着性
    (表面科学学術講演会要旨集 2016)
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学歴 (2件):
  • 1989 - 1991 東京大学 大学院工学系研究科 物理工学専攻
  • 1985 - 1989 東京大学 工学部 物理工学科
学位 (1件):
  • 博士(工学) (東京大学)
委員歴 (8件):
  • 2024/04 - 現在 日本表面真空学会 SP 部会 部会長
  • 2020 - 現在 日本表面真空学会 フェロー
  • 2018/04 - 現在 日本表面真空学会 電子ジャーナル委員会
  • 2010 - 現在 日本表面真空学会 教育委員会
  • 2018/04 - 2022/03 日本表面真空学会 SP 部会 副部会長
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受賞 (3件):
  • 2015/12 - 日本真空学会 第56回 真空に関する連合講演会 優秀ポスター賞 反応性スパッタにおけるモード遷移挙動の普遍性
  • 2013 - 日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 部会賞
  • 1998 - 第5回(1998年秋季)応用物理学会講演奨励賞
所属学会 (6件):
表面技術協会 ,  IEEE ,  電気学会 ,  日本表面真空学会 ,  AVS ,  応用物理学会
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