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J-GLOBAL ID：202202272947662166   整理番号：22A0007781

電気還元プロセスによるトリクロロ酢酸と臭素酸塩の共除去に関する洞察:競争反応機構と増強原子H*安定化【JST・京大機械翻訳】

Insights into co-removal of trichloroacetic acid and bromate by an electroreduction process: Competitive reaction mechanism and enhanced atomic H* stabilization

著者 (8件)： Mao Ran (Key Laboratory of Drinking Water Science and Technology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Yan Li (State Key Laboratory of Environmental Chemistry and Ecotoxicology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Zhao Xu (Key Laboratory of Drinking Water Science and Technology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Djellabi Ridha (Department of Chemistry, Universita degli Studi di Milano, Milano 20133, Italy) ,  Wang Kaifeng (Key Laboratory of Drinking Water Science and Technology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Hu Ke (Key Laboratory of Drinking Water Science and Technology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Zhu Haiyang (Key Laboratory of Drinking Water Science and Technology, Research Center for Eco-Environmental Sciences, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100085, China) ,  Zhu Haiyang (China Automotive Engineering Corporation Co., Ltd., Tianjin 300113, China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 429  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電極触媒還元処理は,オキシアニオンと塩素化殺菌副産物の低減のための有望な方法である。プロトン/水の電解還元により生成した原子状水素(H*)は高度に還元され,そのカソード表面での安定化は触媒効率を改善するのに重要である。ここでは,化学気相堆積法により,貴金属フリーNドープグラフェン-Cu(NG-Cu)発泡体電極を調製し,それは,それぞれ,1.2Vで0.319および0.271min-1の速度定数で,臭素酸塩およびトリクロロ酢酸(TCAA)の還元に対して,優れた電極触媒活性を示した。臭素酸塩はTCAAよりも反応部位に対してはるかに高い親和性を有し,TCAA還元を表面活性部位と拡散によってそれぞれ制御された2段階に分割した。Electronスピン共鳴解析と密度汎関数理論計算は,H*の生成と安定化がヘテロ原子ドーピングによって強化され,NG-Cuフォームカソードでの臭素酸塩とTCAA除去の両方に対する間接H*還元のより高い寄与をもたらすことを示唆した。本研究は貴金属触媒を使用しない電極触媒精製プロセスのための間接H*還元をブースティングするための有望な戦略を提供した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 陽子 ,  貴金属 ,  塩素化 ,  *カソード還元 ,  *臭素酸塩 ,  活性部位 ,  ドーピング ,  電極触媒 ,  親和性 ,  カソード ,  *競争反応 ,  脂肪族塩素化合物 ,  脂肪族カルボン酸
準シソーラス用語： ヘテロ原子 ,  貴金属触媒 ,  電極触媒活性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 電極触媒脱塩素 ,  臭素酸塩の還元 ,  原子状水素 ,  間接還元 ,  競争的電解還元

分類 (2件)： 用水の化学的処理  (SC02040E) ,  その他の汚染原因物質  (SB05040W)

物質索引 (1件)： トリクロロ酢酸

タイトルに関連する用語 (9件)： 電気還元 ,  プロセス ,  トリクロロ酢酸 ,  臭素酸塩 ,  洞察 ,  競争反応 ,  増強 ,  原子 ,  安定化