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J-GLOBAL ID：202202273838817374   整理番号：22A0731048

改善された表面形態を有するNbNエピ層上のCo_2FeSiホイスラー合金エピタキシャル膜の作製【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of Co₂FeSi Heusler-alloy epitaxial film on NbN epilayer with improved surface morphology

著者 (3件)： Fujita Yuichi (International Center for Young Scientists, National Institute for Materials Science, 1-2-1 Sengen, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan) ,  Sasaki Taisuke (Research Center for Magnetic and Spintronic Materials, National Institute for Materials Science, 1-2-1 Sengen, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan) ,  Sakuraba Yuya (Research Center for Magnetic and Spintronic Materials, National Institute for Materials Science, 1-2-1 Sengen, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 745  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エピタキシャルNbN層の表面形態と,Co基ホイスラー合金Co_2FeSi(CFS)のエピタキシャル成長を,表面平坦NbNエピ層上に改善した。エピタキシャルNbN層の表面粗さは,Crバッファ層と800°Cでの堆積後アニーリングを用いて抑制され,約1.7Åの非常に小さい平均表面粗さをもたらした。CFS層は,表面平坦NbN層上にエピタキシャルに形成され,CFS/NbNとNbN/Cr界面は,高角度環状暗視野走査透過電子顕微鏡を用いて原子的に平坦であることが確認された。エネルギー分散X線分光(EDS)元素マップは,MgO基板上のCFS/NbN/Cr中の構成原子の著しい相互拡散を示さないが,EDS濃度プロファイルは,Crバッファ層へのNbN層のN原子の僅かな拡散を示す。N原子の拡散はNbN層の結晶性の劣化の起源であった。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *エピタクシー ,  界面 ,  焼なまし ,  相互拡散 ,  *薄膜 ,  *表面構造 ,  クロム ,  濃度分布 ,  酸化マグネシウム ,  結晶度 ,  X線分光法 ,  *ホイスラー合金 ,  バッファ層 ,  *モルフォロジー
準シソーラス用語： 暗視野 ,  *表面形態 ,  *エピタキシャル層 ,  *エピタキシャル膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： スピントロニクス ,  ホイスラー合金 ,  超伝導 ,  低温エレクトロニクス

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 表面形態 ,  NbN ,  エピ層 ,  ホイスラー合金 ,  エピタキシャル膜 ,  作製