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J-GLOBAL ID:202202274175148753   整理番号:22A0836450

メタンの乾式改質のためのシリカライト-1ゼオライトへの高負荷と均一なNiナノ粒子の埋め込み【JST・京大機械翻訳】

Embedding high loading and uniform Ni nanoparticles into silicalite-1 zeolite for dry reforming of methane
著者 (13件):
資料名:
巻: 307  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: W0375A  ISSN: 0926-3373  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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担体へのNiナノ粒子(NP)の埋込みはNi閉じ込めの解決策の一つとして広く受け入れられているが,高負荷はよく分散し,カプセル化される反対に通常立っている。ここでは,中空シリカライト-1(S-1)ゼオライトのシェルに高負荷および均一Ni NPを埋め込む制御されたγ′溶解-再結晶法を開発した。Ni NPのサイズは3%から20%へのNi負荷の増加と共に約4~5nmに維持され,TOFはメタン反応の乾式改質において約60s-1(800°C)を維持した。Ni負荷による活性部位の増大した密度は,20%Ni@S-1で20.0mol_CH_4/g_cat/hという顕著な反応速度を与えた。埋込み構造も150時間運転時に良好な安定性を与えた。本研究は,ゼオライト内部に高負荷および均一金属ナノ粒子を埋め込むための道を開き,過酷な反応条件下で金属を安定化させるための効果的な戦略を提供した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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その他の触媒  ,  ガス化,ガス化プラント 
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