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J-GLOBAL ID：202202274983644320   整理番号：22A0104946

パルプおよび製紙産業におけるサイドストリームの保証のための強化された防汚性能を有するポリスルホン限外ろ過膜の開発【JST・京大機械翻訳】

Development of polysulfone ultrafiltration membranes with enhanced antifouling performance for the valorisation of side streams in the pulp and paper industry

著者 (8件)： Burts K.S. (Institute of Physical Organic Chemistry, National Academy of Sciences of Belarus, Surganov str. 13, 220072 Minsk, Belarus) ,  Plisko T.V. (Institute of Physical Organic Chemistry, National Academy of Sciences of Belarus, Surganov str. 13, 220072 Minsk, Belarus) ,  Bildyukevich A.V. (Institute of Physical Organic Chemistry, National Academy of Sciences of Belarus, Surganov str. 13, 220072 Minsk, Belarus) ,  Rodrigues G. (Department of Chemical Engineering, Lund University, Box 124, 221 00 Lund, Sweden) ,  Rodrigues G. (Department of Bioengineering, Instituto Superior Tecnico, Lisbon, Portugal) ,  Sjolin M. (Department of Chemical Engineering, Lund University, Box 124, 221 00 Lund, Sweden) ,  Lipnizki F. (Department of Chemical Engineering, Lund University, Box 124, 221 00 Lund, Sweden) ,  Ulbricht M. (Lehrstuhl fuer Technische Chemie II, Universitaet Duisburg-Essen, Essen, Germany)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 632  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非溶媒誘起相分離(NIPS)による膜調製時の凝固浴へのポリアクリル酸(PAA,M_n=250kg/mol)の添加によるポリスルホン(PSf)膜修飾の1段階法を提案した。リゾチーム,ポリビニルピロリドン(PVP K-30,M_n=40kg mol-1)及びフミン酸モデル溶液の限外ろ過における膜構造,親水性,ゼータ電位,分離性能及び防汚安定性に及ぼすPAA濃度の影響を,熱機械的パルプ工場プロセス(ThMP)水と同様に研究した。Fourier変換赤外(FTIR)分光法,走査電子顕微鏡(SEM),原子間力顕微鏡(AFM),接線流流動電位の測定および水接触角を膜キャラクタリゼーションに用いた。凝集浴へのPAAの添加は,選択層の細孔径と多孔性を減少させ,より厚く緻密な選択層の生成をもたらした。改質膜の水接触角は著しく低下し,選択層のゼータ電位は調べたpH範囲3~10において参照膜に比べてより負になることが分かった。純水フラックス(PWF)が減少し,リゾチームとPVP K-30排除が凝集浴中のPAA濃度の増加により増加することを明らかにした。PAAで修飾した膜はフミン酸溶液とThMPプロセス水の限外ろ過においてより良い防汚安定性を示した。改質膜は,ヘミセルロース濃度と精製のためのこれらの膜の適用を可能にする参照PSf膜と比較して,ThMPプロセス水限外ろ過において,より高いフラックス,汚損回収比,およびヘミセルロース除去率を有することが分かった。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 凝固 ,  凝集 ,  走査電子顕微鏡 ,  ζ電位 ,  親水性 ,  相分離 ,  フミン酸 ,  ポリアクリル酸 ,  リゾチーム ,  ヘミセルロース ,  *ポリスルホン ,  *限外濾過 ,  原子間力顕微鏡 ,  FTIR分光法
準シソーラス用語： *限外濾過膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (8件)： 廃水処理 ,  限外ろ過 ,  汚損 ,  膜修飾 ,  ポリスルホン ,  ポリアクリル酸 ,  サーモメカニカルパルプ工場プロセス水 ,  ヘミセルロース濃度

分類 (3件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (9件)： パルプ ,  製紙産業 ,  ストリーム ,  保証 ,  強化 ,  防汚 ,  ポリスルホン ,  限外ろ過膜 ,  開発