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J-GLOBAL ID:202202283055332823   整理番号:22A0169267

高性能酸化物薄膜トランジスタ用の溶液処理高kハイブリッドゲート絶縁体の温度依存性と機能化【JST・京大機械翻訳】

Temperature dependence and functionalization of solution processed high-k hybrid gate insulators for high performance oxide thin-film transistors
著者 (5件):
資料名:
巻: 55  号:ページ: 075102 (6pp)  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0092B  ISSN: 0022-3727  CODEN: JPAPBE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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高性能および低電圧動作非晶質InGaZnO(a-IGZO)薄膜トランジスタ(TFTs)に対して~8.9の高い誘電率(高k)を有する溶液処理ゲート絶縁体(GI)を実証した。高kBaTiO_x(BTO)ナノ粒子とポリシロキサン(PSX)ポリマーマトリックスの組合せによって,約30cm2Vs-1までの高い移動度,<0.5Vの閾値電圧,および低いオフ電流(~10-12A)を達成できる。この組み合わせは650°Cから300°Cの低いプロセス温度を可能にし,一方,強化された性能と低いゲート漏れ電流を確実にする。また,フッ素化による高kハイブリッドBTO/PSXのチューナビリティと,さらに漏れ電流を減らし,ドライエッチング関連劣化を阻害する感光性特性の添加を示した。高kハイブリッドBTO/PSX GIは,高性能および低電圧動作酸化物TFTのための有望な候補である。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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