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J-GLOBAL ID：202202284838496496   整理番号：22A1210796

大面積偏向を有する超高速電子ビーム加工装置(UHSEB)の開発と応用

著者 (7件)： 永井佐利 (エリオニクス) ,  渡部工 (エリオニクス) ,  戸田駿一 (エリオニクス) ,  伊藤高臣 (エリオニクス) ,  尹成圓 (産業技術総合研) ,  鈴木健太 (産業技術総合研) ,  廣島洋 (産業技術総合研)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2022  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.D28(D28.D29)  発行年： 2022年03月02日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 大面積偏向型の描画装置(UHSEB)は,コストパフォーマンスを考慮し,装置構成がシンプルなスポットビーム型の電子ビーム描画装置をベースに,スループット高い装置として開発を行った。トータルの加工時間を従来装置と比較して40倍以上のスループット向上を達成し,従来のスポット型の電子ビーム描画装置では不可能だったウェハーレベルでの高速描画を実現した。(著者抄録)

シソーラス用語： *特殊加工機 ,  高速度 ,  *装置 ,  *加工時間 ,  スループット ,  ナノメータ加工 ,  *リソグラフィー ,  微細加工
準シソーラス用語： *ナノインプリントリソグラフィー ,  ナノ加工 ,  超高速 ,  *電子ビーム加工機 ,  *描画装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 大面積 ,  偏向 ,  電子ビーム加工 ,  開発 ,  応用