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J-GLOBAL ID：202202292019307918   整理番号：22A0442330

増強電気化学CO_2還元のための三相界面の発展【JST・京大機械翻訳】

Evolution of Triple-Phase interface for enhanced electrochemical CO₂ reduction

著者 (6件)： Shi Tong (MIIT Key Laboratory of Thermal Control of Electronic Equipment, School of Energy and Power Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, PR China) ,  Shi Tong (State Key Laboratory of Multiphase Flow in Power Engineering, School of Energy and Power Engineering, Xi’an Jiaotong University, Xi’an 710049, PR China) ,  Liu Dong (MIIT Key Laboratory of Thermal Control of Electronic Equipment, School of Energy and Power Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, PR China) ,  Feng Hao (MIIT Key Laboratory of Thermal Control of Electronic Equipment, School of Energy and Power Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, PR China) ,  Zhang Ying (MIIT Key Laboratory of Thermal Control of Electronic Equipment, School of Energy and Power Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, PR China) ,  Li Qiang (MIIT Key Laboratory of Thermal Control of Electronic Equipment, School of Energy and Power Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, PR China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 431  号： P3  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 選択的電気化学CO_2還元反応(CO_2RR)は,CO_2分子,電解質および電極触媒の活性部位の効率的な三相接触を必要とする。これを達成するために,研究は電極への表面修飾の使用を求めてきた。しかし,これらの修飾の安定性と電極の固有特性への影響はほとんど議論されていない。ここでは,銅デンドライト電極への1-オクタデカンチオール修飾の疎水性処理をベンチマークとして採用し,修飾後の電極表面と対応するCO_2RR性能の進展を調べた。初期疎水性表面(HB-Cu)が最終的に安定な三重相界面(TP-Cu)に変態し,安定な銅チオラートの生成とアルカンスルホナート溶解からの隙間の生成に起因することを示した。驚くべきことに,この構造進化は電荷移動のより低い抵抗と活性部位のより十分な露出をもたらし,効率的な三相接触を可能にした。その結果,TP-Cuは,HB-Cuと比較して,電流密度の約4倍の増強とH_2生産の2倍以上の減少を達成した。以前の研究と比較して,著者らは,選択的で効率的な電気化学CO_2還元を容易にする,三相電極界面を設計するための表面修飾戦略の余分なパワーを実証した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電荷移動 ,  溶解 ,  銅 ,  疎水性 ,  樹枝状結晶 ,  活性部位 ,  電流密度 ,  *相境界 ,  電解質 ,  電極触媒 ,  *電気化学 ,  チオラート ,  ベンチマーク
準シソーラス用語： *三相界面 ,  電極表面 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： CO_2削減 ,  三相界面 ,  選択性 ,  電極触媒 ,  Cuデンドライト

分類 (2件)： 反応操作(単位反応)  (XE01040I) ,  触媒操作  (XE01050T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 増強 ,  電気化学 ,  還元 ,  三相界面 ,  発展