特許

J-GLOBAL ID：202203000815819010

微小構造体及びその製造方法

発明者： 増田 貴史 ,  森 雅弘
出願人/特許権者： 国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学
代理人 (1件)： 河野 広明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-004101
公開番号（公開出願番号）：特開2022-108891
出願日： 2021年01月14日
公開日（公表日）： 2022年07月27日
要約：

【課題】形状の自由度が高い、不可避不純物を含むシリコンからなる微小構造体及びその製造方法を提供する。 【解決手段】本発明の1つ微小構造体330は、常温常圧下において液相の水素化ケイ素化合物由来の、不可避不純物を含むシリコンからなり、基材に接する該シリコンの構造体である。この微小構造体によれば、液相の水素化ケイ素化合物を出発材として生成されたシリコンからなる構造体であるため、液相という出発材の特性を活かした、形状の自由度が高い微小構造体を実現し得る。 【選択図】図8

請求項（抜粋）：

常温常圧下において液相の水素化ケイ素化合物由来の、不可避不純物を含むシリコンからなり、 基材に接する、前記シリコンの構造体である、 微小構造体。

IPC (4件)：

B81B 1/00 ,  B81C 1/00 ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00

FI (4件)：

B81B1/00 ,  B81C1/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

Fターム (18件)：

3C081AA01 ,  3C081AA17 ,  3C081BA01 ,  3C081BA09 ,  3C081BA21 ,  3C081BA72 ,  3C081CA02 ,  3C081CA17 ,  3C081CA23 ,  3C081CA31 ,  3C081DA02 ,  3C081DA03 ,  3C081DA06 ,  3C081DA09 ,  3C081DA10 ,  3C081EA07 ,  3C081EA21 ,  3C081EA39

引用特許：

出願人引用 (2件)

• アモルファスシリコンの製造方法及びアモルファスシリコンの製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-049652   出願人：独立行政法人科学技術振興機構, セイコーエプソン株式会社
• 特許第3926987号公報