特許
J-GLOBAL ID：202203004290530745
光測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
日比谷 洋平
, 日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-018897
公開番号（公開出願番号）：特開2022-164561
出願日： 2022年02月09日
公開日（公表日）： 2022年10月27日
要約：
【課題】偏光状態が制御された照射光を被写体に照射し、被写体からの測定光の偏光状態の変化を測定することで、被写体情報を取得する。
【解決手段】光測定装置は偏光の制御された照射光を被写体Obに照射する偏光照射部10と、被写体Obによって照射光が散乱、反射、吸収等されて生ずる測定光の偏光状態を撮像し、測定光のストークスパラメータの全部又は一部を算出し、被写体Obによって照射光と測定光との間に生ずる偏光成分の変化を測定する偏光撮像部20とから構成されている。偏光状態を制御された照射光を被写体に照射するので、自然光つまり無偏光の照射光を被写体に照射する場合には測定困難であった被写体情報を取得できると共に、偏光状態の不安定な照射光を被写体に照射して偏光を測定する場合に発生するノイズやコントラスト低下を抑制することも可能である。
【選択図】図1
請求項（抜粋）：
偏光を制御された照射光を被写体に対して照射する偏光照射部と、前記照射光が前記被写体に照射されたことによって生ずる測定光の偏光状態を撮像し、前記照射光と前記測定光との間に生ずる偏光成分の変化を測定する偏光撮像部を備えることを特徴とする光測定装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
2G059AA02
, 2G059AA03
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059FF01
, 2G059GG04
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059JJ15
, 2G059JJ18
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059KK01
, 2G059MM01
