特許

J-GLOBAL ID：202203005778560429

ハイドロフルオロオレフィン又はフルオロオレフィンの製造方法

発明者： 蓮本 雄太 ,  高桑 達哉 ,  山本 治 ,  中谷 英樹 ,  能美 政男 ,  佐藤 数行 ,  山ノ井 航平 ,  大島 明博
出願人/特許権者： ダイキン工業株式会社 ,  国立大学法人大阪大学
代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-164992
公開番号（公開出願番号）：特開2022-000476
出願日： 2021年10月06日
公開日（公表日）： 2022年01月04日
要約：

【課題】目的化合物の合成過程で高温及び触媒を必要とせず、且つ目的化合物の選択率が高いハイドロフルオロオレフィン(HFO)又はフルオロオレフィン(FO)の製造方法を提供する。【解決手段】炭素数1又は2のハイドロフルオロカーボン並びに炭素数2又は3のハイドロフルオロオレフィンAからなる群から選択される少なくとも一種の原料化合物に電離放射線及び/又は波長300nm以下の紫外線を照射することを特徴とする、炭素数2、3又は4のハイドロフルオロオレフィン又はフルオロオレフィンの製造方法(但し、前記原料化合物が前記ハイドロフルオロオレフィンAの場合、得られる前記ハイドロフルオロオレフィンは前記ハイドロフルオロオレフィンAとは異なる。)。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

炭素数1又は2のハイドロフルオロカーボン並びに炭素数2又は3のハイドロフルオロオレフィンAからなる群から選択される少なくとも一種の原料化合物に電離放射線及び/又は波長300nm以下の紫外線を照射することを特徴とする、炭素数2、3又は4のハイドロフルオロオレフィン又はフルオロオレフィンの製造方法(但し、前記原料化合物が前記ハイドロフルオロオレフィンAの場合、得られる前記ハイドロフルオロオレフィンは前記ハイドロフルオロオレフィンAとは異なる。)。

IPC (2件)：

C07C 17/269 ,  C07C 21/18

FI (2件)：

C07C17/269 ,  C07C21/18

Fターム (4件)：

4H006AA02 ,  4H006AC24 ,  4H006BA95 ,  4H006EA03