特許
J-GLOBAL ID：202203008330974957
貼付剤の製造方法および貼付剤
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
弁理士法人酒井国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-092097
公開番号（公開出願番号）：特開2022-184322
出願日： 2021年06月01日
公開日（公表日）： 2022年12月13日
要約：
【課題】貼付剤の使用時における薬剤血中濃度をより安定化させることができ、濃度の管理を容易に行うこと。
【解決手段】ハイドロゲルからなるゲル状部を有する貼付剤の製造方法であって、ハイドロゲルを構成する高分子材料を含む高分子溶液を所定の厚さに塗布する塗布工程と、塗布された高分子溶液に放射線を照射することによりゲル化させてゲル層を形成する硬化工程と、塗布工程と硬化工程とを順次複数回実行することにより、ゲル層を複数層積層させてゲル状部を形成する積層工程と、を含み、硬化工程において、高分子溶液の放射線の吸収線量の分布における浸透深さが、所定の厚さより大きく、かつ吸収線量の分布がピークとなる深さが所定の厚さ未満である。
【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ハイドロゲルからなるゲル状部を有する貼付剤の製造方法であって、
前記ハイドロゲルを構成する高分子材料を含む高分子溶液を所定の厚さに塗布する塗布工程と、
塗布された前記高分子溶液に放射線を照射することによりゲル化させてゲル層を形成する硬化工程と、
前記塗布工程と前記硬化工程とを順次複数回実行することにより、前記ゲル層を複数層積層させて前記ゲル状部を形成する積層工程と、を含み、
前記硬化工程において、前記高分子溶液の前記放射線の吸収線量の分布における浸透深さが、前記所定の厚さより大きく、かつ前記吸収線量の分布がピークとなる深さが前記所定の厚さ未満である
ことを特徴とする貼付剤の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
4C076AA72
, 4C076EE06
, 4C076FF01
, 4C076FF63
, 4C076GG01
