クリーニング方法及び基板処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：伊東忠重 , 伊東忠彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-132558
公開番号（公開出願番号）：特開2020-010001
特許番号：特許第7038618号
出願日： 2018年07月12日
公開日（公表日）： 2020年01月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】チャンバ内のステージに付着した汚染物を除去するクリーニング方法であって、前記チャンバ内を所定の真空圧力に設定する第1工程と、前記ステージに向けて衝撃波を形成する第1のガスを供給する第2工程と、前記ステージに向けて衝撃波を形成しない第2のガスを供給する第3工程と、を有し、前記第3工程は、ガスノズルを前記ステージの中央に設けられたガス供給管の外周内壁に配置し、前記ガスノズルから前記第2のガスを供給し、前記チャンバの中央よりも外側に設けられた1つ又は複数の排気口から前記第2のガスを排気する第4工程を有する、クリーニング方法。

IPC (3件)：