特許

J-GLOBAL ID：202203012945529799

基板処理装置

発明者： 大森 圭悟
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-124025
公開番号（公開出願番号）：特開2020-173091
特許番号：特許第7055839号
出願日： 2016年06月23日
公開日（公表日）： 2020年10月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板搬送路の上方に設けられ、前記基板搬送路に向けて気体を吹き出す第1の気体吹出部と、 前記基板搬送路の下方に設けられ、前記基板搬送路に向けて気体を吹き出す第2の気体吹出部と、 前記第2の気体吹出部により吹き出された前記気体を妨げないように分断された搬送軸を有し、前記基板搬送路に沿って前記基板を搬送する搬送部と、 前記搬送軸が分断された位置に対応して設けられ、駆動源を持たず、前記搬送部により搬送されて前記基板搬送路を移動する前記基板によって回転し、前記基板搬送路を移動する前記基板を支持する補助ローラと、 前記補助ローラに付着した液体が飛散することを防止する液飛散防止機構と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

F26B 5/14 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B08B 5/02 ( 200 6.01) ,  F26B 13/04 ( 200 6.01) ,  F26B 13/10 ( 200 6.01)

FI (6件)：

F26B 5/14 ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/304 648 A ,  B08B 5/02 A ,  F26B 13/04 ,  F26B 13/10 H

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-097719   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-200687   出願人：シャープ株式会社
• エアーナイフを用いた処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-374570   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社