特許

J-GLOBAL ID：202203014730865340

口臭抑制成分のスクリーニング方法

発明者： 原 武史 ,  久保庭 雅惠 ,  天野 敦雄
出願人/特許権者： 株式会社マンダム ,  国立大学法人大阪大学
代理人 (1件)： 弁理士法人G-chemical
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-048115
公開番号（公開出願番号）：特開2022-147033
出願日： 2021年03月23日
公開日（公表日）： 2022年10月06日
要約：

【課題】新規な口臭抑制成分や、より効果の高い口臭抑制成分を探索できる方法を提供する。 【解決手段】 下記工程を含む口臭抑制成分のスクリーニング方法。 被験物質及び口臭原因物質前駆体を含有する培地を用いて、Actinomyces属細菌を培養する工程 上記工程後、培養系中の口臭原因物質前駆体及び/又は口臭原因物質の量を測定して、被験物質の口臭抑制効果を評価する工程 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記工程を含む口臭抑制成分のスクリーニング方法。 被験物質及び口臭原因物質前駆体を含有する培地を用いて、Actinomyces属細菌を培養する工程 上記工程後、培養系中の口臭原因物質前駆体及び/又は口臭原因物質の量を測定して、被験物質の口臭抑制効果を評価する工程

IPC (3件)：

C12Q 1/02 ,  G01N 33/50 ,  G01N 33/15

FI (3件)：

C12Q1/02 ,  G01N33/50 Z ,  G01N33/15 Z

Fターム (10件)：

2G045AA40 ,  4B063QA01 ,  4B063QA18 ,  4B063QQ06 ,  4B063QQ20 ,  4B063QQ80 ,  4B063QR49 ,  4B063QR76 ,  4B063QX02 ,  4B063QX10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 口臭除去剤及び口腔用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-290481   出願人：ライオン株式会社

審査官引用 (2件)

• 口臭抑制成分のスクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2019-058685   出願人：株式会社マンダム, 国立大学法人大阪大学
• 歯周病菌増殖抑制用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2017-222116   出願人：国立大学法人岐阜大学, アピ株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Hydrogen sulfide-producing bacteria in tongue biofilm and their relationship with oral malodour