マススペクトル処理装置及び方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-126824
公開番号（公開出願番号）：特開2020-008314
特許番号：特許第7018364号
出願日： 2018年07月03日
公開日（公表日）： 2020年01月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】試料上の複数の位置から取得された複数のマススペクトルに基づいて、それらを代表する代表マススペクトルを生成する代表マススペクトル生成手段と、前記代表マススペクトルに含まれる複数のピークを複数のピーク点としてポリマー解析座標系にマッピングすることによりピーク点マップを生成するマップ生成手段と、前記ピーク点マップの中から選択された注目ピーク点集団に基づいて、前記各マススペクトルから注目マススペクトル成分を抽出する抽出手段と、前記複数のマススペクトルから抽出された複数の注目マススペクトル成分に基づいて、注目マススペクトル成分分布像を生成する分布像生成手段と、を含むことを特徴とするマススペクトル処理装置。

IPC (2件)：