特許
J-GLOBAL ID：202203017263423435
磁場影響を考慮した線量分布作成プログラム、磁場影響を考慮した線量分布作成方法、および線量分布作成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
棚井 澄雄
, 飯田 雅人
, 及川 周
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-185160
公開番号（公開出願番号）：特開2022-074801
出願日： 2020年11月05日
公開日（公表日）： 2022年05月18日
要約：
【課題】従来より高速かつ正確な磁場下で線量計算を可能とする磁場影響を考慮した線量分布作成プログラム、磁場影響を考慮した線量分布作成方法、および線量分布作成装置を提供することを目的とする。
【解決手段】磁場影響を考慮した線量分布作成プログラムは、コンピュータに、被験者を磁場と電波または光子線によって撮影させた撮影画像と、非磁場下の線量分布と、磁場下の線量分布とを取得させ、非磁場下の線量分布と、磁場下の線量分布と、撮影画像に基づく情報と、を用いて事前学習された複数の層から成る学習モデルに、非磁場下の線量分布と、撮影画像に基づく情報とを入力させ、磁場下の線量分布を推定させる。
【選択図】図7
請求項（抜粋）：
コンピュータに、
被験者を磁場と電波または光子線によって撮影させた撮影画像と、非磁場下の線量分布と、磁場下の線量分布とを取得させ、
前記非磁場下の線量分布と、前記磁場下の線量分布と、前記撮影画像に基づく情報と、を用いて学習された複数の層から成る学習モデルに、前記非磁場下の線量分布と、前記撮影画像に基づく情報とを入力させ、磁場下の線量分布を推定させる、
磁場影響を考慮した線量分布作成プログラム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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