特許

J-GLOBAL ID：202203017792177032

白金系スパッタリングターゲット及びその製造方法

発明者： 藤野 晶仁 ,  田中 邦弘 ,  窪田 秀一 ,  麻田 敬雄 ,  遠藤 哲郎 ,  池田 正二
出願人/特許権者： 国立大学法人東北大学 ,  田中貴金属工業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人田中・岡崎アンドアソシエイツ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-189958
公開番号（公開出願番号）：特開2022-079030
出願日： 2020年11月16日
公開日（公表日）： 2022年05月26日
要約：

【課題】白金又は白金合金からなる白金系スパッタリングターゲットに関し、経時的な面内均一性を維持することができる白金系スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。 【解決手段】白金又は白金合金からなる白金系スパッタリングターゲットに関する。本発明に係る白金系スパッタリングターゲットは、祖の厚さ方向断面の材料組織に特徴を有する。即ち、厚さ方向に沿った断面を厚さ方向に沿ってn等分(n=5~20)に区分し、両端を除いた(n-2)区分からなる領域を判定領域として設定し、前記判定領域について、区分毎の平均粒径を測定すると共に判定領域の全体の平均粒径を測定したとき、前記判定領域の全体の平均粒径が150μm以下であり、前記判定領域の各区分の平均粒径より算出される変動係数が15%以下となっている。 【選択図】図3

請求項（抜粋）：

白金又は白金合金からなる白金系スパッタリングターゲットにおいて、 厚さ方向に沿った断面を厚さ方向に沿ってn等分(n=5~20)に区分し、両端を除いた(n-2)区分からなる領域を判定領域として設定し、前記判定領域について、区分毎の平均粒径を測定すると共に判定領域の全体の平均粒径を測定したとき、 前記判定領域の全体の平均粒径が150μm以下であり、 前記判定領域の各区分の平均粒径より算出される変動係数が15%以下であることを特徴とする白金系スパッタリングターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  C22C 5/04 ,  C22F 1/14

FI (3件)：

C23C14/34 A ,  C22C5/04 ,  C22F1/14

Fターム (5件)：

4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029DC02 ,  4K029DC07 ,  4K029DC08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第6514646号明細書
  

審査官引用 (1件)

• Ni又はNi合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-186693   出願人：三菱マテリアル株式会社