特許
J-GLOBAL ID：202203018397128894
EUV露光用反射型マスクブランク、および反射型マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
伊東 秀明
, 蜂谷 浩久
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-078632
公開番号（公開出願番号）：特開2018-180544
特許番号：特許第7063075号
出願日： 2018年04月16日
公開日（公表日）： 2018年11月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上にEUV光を反射する多層反射膜と、マスク加工時に部分的にエッチングされるパターン膜とを、基板側からこの順に備えるバイナリ型の反射型マスクブランクであって、 前記バイナリ型の反射型マスクブランクは、EUV光の反射率が2%以下であり、 前記パターン膜は、EUV光を吸収する吸収体膜と、表面反射増強膜とを基板側からこの順で備えており、 波長13.53nmにおける、前記吸収体膜の屈折率をnABS、吸収係数をkABSとし、前記表面反射増強膜の屈折率をn、吸収係数をkとしたとき、((n-1)2+k2)1/2 > ((nABS-1)2+kABS2)1/2 +0.03で示される条件を満たし、前記表面反射増強膜の膜厚dは前記屈折率nを用いて、13.53nm/4n×0.5<d<13.53nm/4n×1.5で示される条件を満たすことを特徴とする反射型マスクブランク。
IPC (2件)：
G03F 1/24 ( 201 2.01)
, G02B 5/28 ( 200 6.01)
