文献
J-GLOBAL ID：202302272293972746
整理番号：23A1544703
プロトン拡散と紫外光照射で分解するアリールケイ素架橋型高分子材料の開発
Development of Aryl Silicon-Crosslinked Polymer Material Degradable by Proton Diffusion and UV Irradiation
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著者 (5件)：
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資料名：
巻：
103rd
ページ：
ROMBUNNO.K301-3am-03 (WEB ONLY)
発行年：
2023年
JST資料番号：
U2384A
資料種別：
会議録 (C)
記事区分：
短報
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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我々はジピレニルケイ素化合物のプロトン付加によるSi-C結合...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (3件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
高分子固体の構造と形態学
, 高分子の分解,劣化
, 高分子と低分子との反応
タイトルに関連する用語 (7件)：
タイトルに関連する用語
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