文献
J-GLOBAL ID：202302272293972746
整理番号：23A1544703
プロトン拡散と紫外光照射で分解するアリールケイ素架橋型高分子材料の開発
Development of Aryl Silicon-Crosslinked Polymer Material Degradable by Proton Diffusion and UV Irradiation
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著者 (5件)：
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資料名：
巻：
103rd
ページ：
ROMBUNNO.K301-3am-03 (WEB ONLY)
発行年：
2023年
JST資料番号：
U2384A
資料種別：
会議録 (C)
記事区分：
短報
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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我々はジピレニルケイ素化合物のプロトン付加によるSi-C結合の開裂がUV照射により加速的に進行することを見出し,それを架橋剤とした酸・光協働分解高分子材料を開発している.本研究では,ジピレニルケイ素架橋を酸性ポリマー中に導入した架橋高分子を作製した.その架橋高分子材料は,水による膨潤と太陽光程度の強度の紫外光照射の2条件を同時に作用させたときのみ協働的に分解することが明らかとなった.(著者抄録)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (3件)：
分類
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高分子固体の構造と形態学
, 高分子の分解,劣化
, 高分子と低分子との反応
タイトルに関連する用語 (7件)：
タイトルに関連する用語
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