特許

J-GLOBAL ID：202303001807841663

水素ガス製造方法及び装置

発明者： 源平 浩己 ,  西野 則幸 ,  樋口 順一 ,  中尾 公紀 ,  福島 義勝
出願人/特許権者： 株式会社スチームテックホールディングス
代理人 (1件)： 井出 正威
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2023-001657
特許番号：特許第7316713号
出願日： 2023年01月10日
要約：

【課題】水素化マグネシウム、金属マグネシウム等の金属を水蒸気と接触させ、生成物として水素ガスと金属酸化物と熱を生成させる反応を制御して、水素の製造を間欠的又は連続的に実施できる技術を提供する。 【解決手段】金属を収容した反応容器内に水蒸気を導入することにより、金属を水蒸気と反応させて金属酸化物と水素を生成させる反応を生起させるとともに、反応容器から水素を含むガスを回収することを含む水素ガス製造方法であって、反応容器内に不活性ガスを導入して、反応を停止させるか、または、反応容器から回収されるガスの酸素濃度を水素の爆発限界酸素濃度よりも低く保持する。さらに、水蒸気の酸素含有量を低減させることにより、前記酸素濃度を低く保持でき、反応容器内を冷却すれば、反応容器から回収されるガスの温度を所定温度に保持できる。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

【請求項1】金属を収容した反応容器内に水蒸気を導入することにより、前記金属を前記水蒸気と反応させて金属酸化物と水素を生成させる反応を生起させるとともに、前記反応容器から水素を含むガスを回収することを含む水素ガス製造方法であって、前記反応容器内に不活性ガスを導入して、前記反応を停止させるか、または、前記反応容器から回収されるガスの酸素濃度を水素の爆発限界酸素濃度よりも低く保持するようにしたことを特徴とする水素ガス製造方法。

IPC (2件)：

C01B 3/10 ( 200 6.01) ,  C01B 3/06 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C01B 3/10 ,  C01B 3/06

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 水素ガス発生方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2018-041227   出願人：グローバル・ドリーム株式会社