特許

J-GLOBAL ID：202303012986554789

高吸着性超撥水性基板、高吸着性超撥水性基板の製造方法及び液滴操作方法

発明者： 菅原 浩幸 ,  谷口 淳
出願人/特許権者： ジオマテック株式会社 ,  学校法人東京理科大学
代理人 (3件)： 秋山 敦 ,  福士 智恵子 ,  角渕 由英
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-132036
公開番号（公開出願番号）：特開2023-033180
出願日： 2022年08月22日
公開日（公表日）： 2023年03月09日
要約：

【課題】撥水性がありながら液滴を保持可能な高吸着性超撥水性基板を提供する。 【解決手段】高吸着性超撥水性基板は、基材10と、基材の上に形成されたナノ構造を有する超撥水性層Sと、超撥水性層の表面に形成されたマイクロ構造と、を備える。ナノ構造は、根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されており、微細な突起の平均直径が、10nm~400nmであり、平均高さが、30nm~1000nmであり、平均ピッチが、10nm~500nmの範囲内である。マイクロ構造は、超撥水性層の表面における縦横の大きさが5~100μmであり、深さ又は高さが5~40μmの範囲内である。 【選択図】図12

請求項（抜粋）：

基材と、 前記基材の上に形成されたナノ構造を有する超撥水性層と、 前記超撥水性層の表面に形成されたマイクロ構造と、を備えることを特徴とする高吸着性超撥水性基板。

IPC (3件)：

B29C 59/02 ,  B29C 33/38 ,  B29C 59/04

FI (3件)：

B29C59/02 Z ,  B29C33/38 ,  B29C59/04 Z

Fターム (24件)：

4F202AJ03 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB02 ,  4F202CB29 ,  4F202CD02 ,  4F202CD23 ,  4F202CD26 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209PA02 ,  4F209PA03 ,  4F209PA18 ,  4F209PB01 ,  4F209PB02 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC08 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ03 ,  4F209PQ11

引用特許：

出願人引用 (1件)

• モスアイ転写型、モスアイ転写型の製造方法及びモスアイ構造の転写方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2018-113021   出願人：学校法人東京理科大学, ジオマテック株式会社