特許

J-GLOBAL ID：202303013976309561

含窒素炭素材料及びその製造方法、並びに、酸素還元電極触媒

発明者： 後藤 良太 ,  小島 綾一 ,  難波江 裕太 ,  早川 晃鏡 ,  守谷 誠 ,  大山 順也
出願人/特許権者： 旭化成株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学 ,  国立大学法人静岡大学 ,  国立大学法人 熊本大学
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-134165
公開番号（公開出願番号）：特開2023-028459
出願日： 2021年08月19日
公開日（公表日）： 2023年03月03日
要約：

【課題】高い酸素還元活性と、高い触媒安定性を示す含窒素炭素材料及びその製造方法、並びに酸素還元電極触媒を提供する。 【解決手段】下記式で表される窒素含有金属錯体と、該窒素含有金属錯体を担持するカーボン担体とを含み、リニアスイープボルタンメトリーの測定方法による活性保持率が、40%以上である、含窒素炭素材料。 JPEG 2023028459000010.jpg 54 170 (式中、Xは、各々独立して、配位子であり、nは0~2の整数である。) 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される窒素含有金属錯体と、該窒素含有金属錯体を担持するカーボン担体とを含み、 リニアスイープボルタンメトリーの測定方法による活性保持率が、40%以上である、 含窒素炭素材料。

IPC (4件)：

B01J 31/22 ,  H01M 4/86 ,  H01M 4/90 ,  B01J 37/08

FI (4件)：

B01J31/22 M ,  H01M4/86 B ,  H01M4/90 Y ,  B01J37/08

Fターム (33件)：

4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC31A ,  4G169BC50A ,  4G169BC54A ,  4G169BC58A ,  4G169BC62A ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BE16A ,  4G169BE16B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169BE39A ,  4G169BE39B ,  4G169CC32 ,  4G169DA05 ,  4G169FB29 ,  4G169FC07 ,  5H018AA06 ,  5H018AS03 ,  5H018BB01 ,  5H018EE05 ,  5H018HH00 ,  5H018HH05 ,  5H018HH08 ,  5H126BB06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 電気化学的酸素還元用触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-127014   出願人：国立研究開発法人産業技術総合研究所