特許

J-GLOBAL ID：202303014969288580

フィルタ、フィルタの製造方法、ろ過装置、薬液の製造方法

発明者： 上村 哲也
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 伊東 秀明 ,  三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-171563
公開番号（公開出願番号）：特開2023-015137
出願日： 2022年10月26日
公開日（公表日）： 2023年01月31日
要約：

【課題】欠陥抑制性が優れる薬液を製造できるフィルタを提供する。また、フィルタの製造方法、ろ過装置、及び、薬液の製造方法を提供する。 【解決手段】ろ過用のフィルタであって、フィルタ本体と、一般式(I)~(V)で表される化合物、一般式(X)で表されるアルカン、並びに、一般式(XI)及び(XII)で表されるアルケン、からなる群から選択される第1有機化合物を1種以上と、を含有し、第1有機化合物の合計含有量が、フィルタの質量に対して、0.10~10000質量pptである、フィルタ。 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ろ過用のフィルタであって、 フィルタ本体と、 一般式(I)~(V)で表される化合物、一般式(X)で表されるアルカン、並びに、一般式(XI)及び(XII)で表されるアルケン、からなる群から選択される第1有機化合物を1種以上と、を含有し、 前記第1有機化合物の合計含有量が、前記フィルタの質量に対して、0.10~10000質量pptである、フィルタ。

IPC (13件)：

B01D 69/00 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/26 ,  G03F 7/42 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/06 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/36 ,  B01D 71/56 ,  B01D 71/82 ,  B01D 69/04 ,  B01D 65/06

FI (13件)：

B01D69/00 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/26 ,  G03F7/42 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/06 ,  B01D71/26 ,  B01D71/36 ,  B01D71/56 ,  B01D71/82 500 ,  B01D69/04 ,  B01D65/06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-002259   出願人：富士フイルム株式会社