特許

J-GLOBAL ID：202303017062809936

イオンビーム生成装置、イオンビーム生成方法、分析方法、加工物の製造方法及びイオン溶液

発明者： 野島 雅
出願人/特許権者： 学校法人東京理科大学
代理人 (1件)： 弁理士法人太陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-170549
公開番号（公開出願番号）：特開2023-060765
出願日： 2021年10月18日
公開日（公表日）： 2023年04月28日
要約：

【課題】種々の金属元素又は非金属元素を含むイオンビームを生成可能なイオンビーム生成装置を提供する。 【解決手段】イオンを含む溶液を貯留する溶液イオン源と、前記溶液イオン源に貯留される前記イオンを含む溶液を噴霧する針状吐出部と、前記イオンを含む溶液に電場を印加することで、前記イオンを含む溶液を前記針状吐出部から電場噴霧させる電場印加部と、前記針状吐出部の下流側に配置され、前記針状吐出部から噴霧された前記イオンに回転電場を印加する回転電場印加部と、を備えるイオンビーム生成装置。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

イオンを含む溶液を貯留する溶液イオン源と、 前記溶液イオン源に貯留される前記イオンを含む溶液を噴霧する針状吐出部と、 前記イオンを含む溶液に電場を印加することで、前記イオンを含む溶液を前記針状吐出部から電場噴霧させる電場印加部と、 前記針状吐出部の下流側に配置され、前記針状吐出部から噴霧された前記イオンに回転電場を印加する回転電場印加部と、 を備えるイオンビーム生成装置。

IPC (1件)：

H01J 37/08

FI (1件)：

H01J37/08

Fターム (11件)：

5C101AA32 ,  5C101CC04 ,  5C101DD02 ,  5C101DD13 ,  5C101DD20 ,  5C101DD31 ,  5C101EE04 ,  5C101EE13 ,  5C101EE35 ,  5C101EE65 ,  5C101EE78

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 液体金属イオン源及び集束イオンビーム装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2019-172506   出願人：株式会社日立ハイテクサイエンス