特許
J-GLOBAL ID：202103014684399995

液体金属イオン源及び集束イオンビーム装置

発明者：
小山 喜弘

小山 喜弘 について

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麻畑 達也

麻畑 達也 について

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清原 正寛

清原 正寛 について

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楊 宗翰

楊 宗翰 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクサイエンス

株式会社日立ハイテクサイエンス について


代理人 (3件)： 赤尾 謙一郎 ,  下田 昭 ,  栗原 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-172506
公開番号（公開出願番号）：特開2021-051844
出願日： 2019年09月24日
公開日（公表日）： 2021年04月01日
要約：
【課題】イオンビームを長期間安定して放出できる液体金属イオン源及び集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】液体金属をなすイオン材料Mを保持するリザーバ10と、リザーバから供給されるイオン材料で表面が覆われるニードル電極20と、ニードル電極の先端からイオン材料のイオンを放出させる引出し電極22と、引出し電極の下流側に配置され、イオンのビーム径を制限するビーム絞り24と、これらを収容して真空に保持する真空室30と、を備えた液体金属イオン源50において、さらに、酸化性ガス導入部40を有し、酸化性ガス導入部は、真空室に連通してニードル電極の周囲に酸化性ガスを導入することを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
液体金属をなすイオン材料を保持するリザーバと、 前記リザーバから供給される前記イオン材料で表面が覆われるニードル電極と、 前記ニードル電極の先端から前記イオン材料のイオンを放出させる引出し電極と、 前記引出し電極の下流側に配置され、前記イオンのビーム径を制限するビーム絞りと、 これらを収容して真空に保持する真空室と、を備えた液体金属イオン源において、 さらに、酸化性ガス導入部を有し、前記酸化性ガス導入部は、前記真空室に連通して前記ニードル電極の周囲に酸化性ガスを導入することを特徴とする液体金属イオン源。
IPC (3件)：
H01J 27/26 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317
FI (3件)：
H01J27/26 ,  H01J37/08 ,  H01J37/317 D
Fターム (3件)：
5C030DF04 ,  5C030DF10 ,  5C034DD01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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