特許
J-GLOBAL ID：202303021116237230
光フェーズドアレイ用位相変調器の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (7件)：
青木 篤
, 三橋 真二
, 鶴田 準一
, 伊藤 公一
, 関根 宣夫
, 河野 努
, 松田 淳浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-054505
公開番号（公開出願番号）：特開2023-147007
出願日： 2022年03月29日
公開日（公表日）： 2023年10月12日
要約：
【課題】簡便で、基板の熱的損傷を生じることなく、基板に形成されている制御回路等の破壊を回避可能な光フェーズドアレイ用位相変調器の製造方法を提供する。
【解決手段】本開示の光フェーズドアレイ用位相変調器の製造方法は、前駆体層適用工程及び光照射工程を含む。前駆体層適用工程は、基板10の表面に、直接又は間接的に、非晶質酸化物を含有する前駆体層20を適用する。赤外光照射工程は、前駆体層20の側から光30を照射して、基板10の熱的損傷を回避しつつ、前駆体層20中の非晶質酸化物を結晶化して、結晶化非線形光学材料層22を得る。
【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の表面に、直接又は間接的に、非晶質酸化物を含有する前駆体層を適用すること、及び、
前記前駆体層の側から光を照射して、前記基板の熱的損傷を回避しつつ、前記前駆体層中の非晶質酸化物を結晶化して、結晶化非線形光学材料層を得ること、
を含む、
光フェーズドアレイ用位相変調器の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
2K102AA21
, 2K102BA07
, 2K102BB04
, 2K102BC04
, 2K102BD09
, 2K102CA28
, 2K102DA04
, 2K102DC01
, 2K102DC08
, 2K102DD03
, 2K102DD06
, 2K102DD10
, 2K102EA02
, 2K102EA16
