特許
J-GLOBAL ID:202403001824159636

画像処理装置、画像処理システム、画像処理方法、および、プログラム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 松沼 泰史 ,  川渕 健一 ,  西澤 和純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2022-111758
公開番号(公開出願番号):特開2024-010428
出願日: 2022年07月12日
公開日(公表日): 2024年01月24日
要約:
【課題】供試体内部における特定の素材の形状または分布をより正確に特定する。 【解決手段】画像取得部は供試体の断面画像が積層され、前記供試体の構造を輝度で表す立体画像を取得し、二値化処理部は前記立体画像の画素ごとの輝度を二値化し、画素ごとに明暗のいずれかを示す二値画像を生成し、指数算出部は前記二値画像の画素ごとに、当該画素から所定の立体的範囲内の近傍領域における明部の比率を明部分布指数として算出し、分析部は前記明部分布指数が所定の値域内の値となる特徴領域を定める。 【選択図】図2
請求項(抜粋):
供試体の断面画像が積層され、前記供試体の構造を輝度で表す立体画像を取得する画像取得部と、 前記立体画像の画素ごとの輝度を二値化し、画素ごとに明暗のいずれかを示す二値画像を生成する二値化処理部と、 前記二値画像の画素ごとに、当該画素から所定の立体的範囲内の近傍領域における明部の比率を明部分布指数として算出する指数算出部と、 前記明部分布指数が所定の値域内の値となる特徴領域を定める分析部と、を備える 画像処理装置。
IPC (1件):
G01N 23/046
FI (1件):
G01N23/046
Fターム (11件):
2G001AA01 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001DA09 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001HA14 ,  2G001JA08 ,  2G001KA01 ,  2G001LA03 ,  2G001PA12
引用特許:
出願人引用 (2件)

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