特許
J-GLOBAL ID:202403006652374531
ホウ素化合物、およびそれを用いた水素化物、重合体ならびに付加体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山尾 憲人
, 福政 充睦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2023-185532
公開番号(公開出願番号):特開2024-081595
出願日: 2023年10月30日
公開日(公表日): 2024年06月18日
要約:
【課題】 高濃度の一酸化炭素および/又は二酸化炭素が共存する条件下においても、水素化反応における触媒被毒が抑制され、より温和な反応条件で、又はより厳しい反応条件で、より広範な組成を有する粗水素ガスを使用して、より高活性で、より高選択的に反応を進行させる触媒等として使用でき、より取り扱いに優れるホウ素化合物を提供する。
【解決手段】 式(1)で表されるホウ素化合物。式(1)において、X
1
及びX
2
は、各々独立して臭素及びヨウ素から選択される。
【化1】
JPEG
2024081595000017.jpg
25
40
【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で表されるホウ素化合物。
IPC (12件):
C07F 5/02
, B01J 31/02
, C07C 33/18
, C07C 29/141
, C07C 33/20
, C07C 33/30
, C07C 33/025
, C07C 33/28
, C07C 69/76
, C07C 67/31
, C07C 65/01
, C07C 51/367
FI (13件):
C07F5/02 A
, B01J31/02 Z
, C07C33/18
, C07C29/141
, C07C33/20
, C07C33/30
, C07C33/025
, C07C33/28
, C07C69/76 Z
, C07C67/31
, C07C65/01
, C07C51/367
, C07F5/02 C
Fターム (27件):
4G169AA06
, 4G169AA08
, 4G169BA21A
, 4G169BA21B
, 4G169BD01B
, 4G169BD03B
, 4G169BD04B
, 4G169BD13B
, 4G169BD15B
, 4G169CB02
, 4G169CC02
, 4G169DA02
, 4G169FA01
, 4G169FA10
, 4H006AA02
, 4H006AC41
, 4H006BA31
, 4H006FC52
, 4H006FC54
, 4H006FE11
, 4H039CA60
, 4H039CB20
, 4H048AA01
, 4H048AA02
, 4H048AB40
, 4H048VA11
, 4H048VA13
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
不飽和化合物の水素化方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2016-100976
出願人:株式会社日本触媒
-
特許第7079696号
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