特許
J-GLOBAL ID:202403006652374531

ホウ素化合物、およびそれを用いた水素化物、重合体ならびに付加体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 山尾 憲人 ,  福政 充睦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2023-185532
公開番号(公開出願番号):特開2024-081595
出願日: 2023年10月30日
公開日(公表日): 2024年06月18日
要約:
【課題】 高濃度の一酸化炭素および/又は二酸化炭素が共存する条件下においても、水素化反応における触媒被毒が抑制され、より温和な反応条件で、又はより厳しい反応条件で、より広範な組成を有する粗水素ガスを使用して、より高活性で、より高選択的に反応を進行させる触媒等として使用でき、より取り扱いに優れるホウ素化合物を提供する。 【解決手段】 式(1)で表されるホウ素化合物。式(1)において、X 1 及びX 2 は、各々独立して臭素及びヨウ素から選択される。 【化1】 JPEG 2024081595000017.jpg 25 40 【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で表されるホウ素化合物。
IPC (12件):
C07F 5/02 ,  B01J 31/02 ,  C07C 33/18 ,  C07C 29/141 ,  C07C 33/20 ,  C07C 33/30 ,  C07C 33/025 ,  C07C 33/28 ,  C07C 69/76 ,  C07C 67/31 ,  C07C 65/01 ,  C07C 51/367
FI (13件):
C07F5/02 A ,  B01J31/02 Z ,  C07C33/18 ,  C07C29/141 ,  C07C33/20 ,  C07C33/30 ,  C07C33/025 ,  C07C33/28 ,  C07C69/76 Z ,  C07C67/31 ,  C07C65/01 ,  C07C51/367 ,  C07F5/02 C
Fターム (27件):
4G169AA06 ,  4G169AA08 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BD01B ,  4G169BD03B ,  4G169BD04B ,  4G169BD13B ,  4G169BD15B ,  4G169CB02 ,  4G169CC02 ,  4G169DA02 ,  4G169FA01 ,  4G169FA10 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006BA31 ,  4H006FC52 ,  4H006FC54 ,  4H006FE11 ,  4H039CA60 ,  4H039CB20 ,  4H048AA01 ,  4H048AA02 ,  4H048AB40 ,  4H048VA11 ,  4H048VA13
引用特許:
出願人引用 (2件)

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