特許

J-GLOBAL ID：202403011993921070

露光装置及び汚染除去装置

発明者： 田中 のぞみ ,  藤岡 慎介 ,  西原 功修 ,  砂原 淳 ,  城崎 知至 ,  王 雨波 ,  小澤 謙 ,  上山 真司
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-148245
公開番号（公開出願番号）：特開2024-043199
出願日： 2022年09月16日
公開日（公表日）： 2024年03月29日
要約：

【課題】露光装置のミラーを汚染するスズ化合物を除去できる露光装置及び汚染除去装置を提供すること。 【解決手段】露光装置100は、真空チャンバー101内にターゲットドロップレットを供給するドロップレット供給部102と、ターゲットドロップレットにパルス状のレーザを照射する駆動レーザ部103と、真空チャンバー101内に設けられ、ターゲットドロップレットにレーザが照射されることにより、ターゲットドロップレットから発せられる光を集光する集光ミラー104と、集光ミラー表面104に沿って水素ガスを流すための水素ガス供給部105と、ターゲットドロップレットの供給条件及び前記レーザの条件を、露光条件と異なる条件に変更して、真空チャンバー101内での水素ラジカル生成量を増加させる制御部106と、真空チャンバー101内を排気する排気ポンプ107と、を備える。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空チャンバー内にターゲットドロップレットを供給するドロップレット供給部と、 前記ターゲットドロップレットにパルス状のレーザを照射する照射部と、 前記真空チャンバー内に設けられ、前記ターゲットドロップレットに前記レーザが照射されることにより、前記ターゲットドロップレットから発せられる光を集光する集光ミラーと、 前記集光ミラー表面に沿って水素ガスを流すための水素ガス供給部と、 前記ターゲットドロップレットの供給条件及び前記レーザの条件を、露光条件と異なる条件に変更して、前記真空チャンバー内での水素ラジカル生成量を増加させる制御部と、 真空チャンバー内を排気する排気ポンプと、を備える露光装置。

IPC (1件)：

G03F 7/20

FI (2件)：

G03F7/20 503 ,  G03F7/20 521

Fターム (5件)：

2H197GA05 ,  2H197GA12 ,  2H197GA20 ,  2H197GA23 ,  2H197GA24