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J-GLOBAL ID:201801017172364738
Update date: Aug. 27, 2024
Toshiyuki Sameshima
Toshiyuki Sameshima
Affiliation and department:
Job title:
Professor
Other affiliations (2):
Homepage URL (1):
http://www.tuat.ac.jp/~sameken/
Research field (1):
Electric/electronic material engineering
Research theme for competitive and other funds (61):
- 2021 - 2024 液体プロセスによる新規低温半導体表面及びカットエッジパッシベーション
- 2018 - 2020 PN接合内蔵電位依存少数キャリヤ再結合欠陥調査及び解析の研究
- 2017 - 2018 超高効率・低コストIII-V化合物太陽電池モジュールの研究開発(メカニカルスタック)
- 2016 - 2017 超高効率・低コストIII-V化合物太陽電池モジュールの研究開発(メカニカルスタック)
- 2017 - 2017 炭素ホットイオン注入法を用いた二次元シリコンカーバイド及びグラフェンの基盤研究
- 2015 - 2016 イオン注入と加熱処理プロセス技術に関する研究
- 2015 - 2016 超高効率・低コストIII-V化合物太陽電池モジュールの研究開発(メカニカルスタック)
- 2015 - 2016 マイクロ波急速加熱による高品質ナノシリコン結晶形成技術開発
- 2015 - 2015 マイクロ波急速加熱による高品質ナノシリコン結晶形成技術開発
- 2014 - 2015 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2013 - 2015 金属仕事関数誘起高効率シリコンソーラーセルの研究
- 2014 - 2014 半導体単原子層を用いた超微細素子の基盤研究
- 2012 - 2013 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2013 - 2013 半導体単原子層を用いた超微細素子の基盤研究
- 2013 - 2013 界面構造設計した高機能化ナノ粒子の太陽電池デバイスへの応用
- 2011 - 2013 Improvement in Characteristics of Crystalline Silicon Solar Cells by High-Pressure Water Vapor Heat Treatment
- 2011 - 2012 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2012 - 2012 半導体単原子層を用いた超微細素子の基盤研究
- 2012 - 2012 界面構造設計した高機能化ナノ粒子の太陽電池デバイスへの応用
- 2010 - 2012 マイクロ波フリーキャリヤ吸収法による非熱平衡プロセス処理起因欠陥とその制御の研究
- 2010 - 2011 フリーキャリア吸収によるSi基板中の微量欠陥の定量評価
- 2010 - 2011 イオンドーピング及び高速熱処理技術による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2010 - 2011 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2011 - 2011 界面構造設計した高機能化ナノ粒子の太陽電池デバイスへの応用
- 2011 - 2011 歪制御による同一半導体を用いたヘテロ素子構造の研究
- 2009 - 2010 イオンドーピング及び高速熱処理技術による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2009 - 2010 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2009 - 2010 高出力赤外半導体レーザを用いた活性化アニール装置の開発
- 2010 - 2010 歪制御による同一半導体を用いたヘテロ素子構造の研究
- 2008 - 2009 シリコン結晶化膜評価技術に関する研究
- 2007 - 2009 シリコン結晶化膜評価技術に関する研究
- 2008 - 2009 半導体プロセスの開発
- 2008 - 2009 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2008 - 2009 高圧水蒸気アニール技術に関する研究
- 2008 - 2009 TFTのプロセス技術に関する研究
- 2008 - 2009 イオンドーピング及び高速熱処理技術による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2008 - 2009 水蒸気処理によるソーラーセル欠陥低減技術の事業化調査
- 2009 - 2009 ソースヘテロ構造を用いたバリスティック素子の基盤研究
- 2009 - 2009 歪制御による同一半導体を用いたヘテロ素子構造の研究
- 2007 - 2008 レーザアニール応用技術開発に関する研究
- 2007 - 2008 高圧水蒸気アニール技術に関する研究
- 2007 - 2008 TFTのプロセス技術に関する研究
- 2007 - 2008 イオンドーピング及び高速熱処理技術による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2007 - 2008 赤外半導体レーザを用いた薄膜シリコン太陽電池の安価製造プロセスの技術開発
- 2008 - 2008 ソースヘテロ構造を用いたバリスティック素子の基盤研究
- 2006 - 2007 レーザアニール応用技術開発に関する研究
- 2006 - 2007 シリコン結晶化膜評価技術に関する研究
- 2006 - 2007 TFTのプロセス技術に関する研究
- 2006 - 2007 高圧水蒸気アニール技術に関する研究
- 2006 - 2007 ポリシリコンTFT素子作製の超低温化に関する研究
- 2006 - 2007 イオンドービング他による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2005 - 2006 レーザアニール応用技術開発に関する研究
- 2005 - 2006 新規半導体プロセス装置に関する研究
- 2005 - 2006 TFTのプロセス技術に関する研究
- 2005 - 2006 ポリシリコンTET素子作成の超低温化に関する研究
- 2005 - 2006 低温ポリシリコン膜へのイオンドーピングプロセスに関する研究
- 2004 - 2005 半導体熱処理技術の研究
- 2004 - 2005 AI合金薄膜とSi薄膜の接合界面における拡散に関する研究
- 2004 - 2005 P-Si TFTプロセス開発
- 2004 - 2005 ポリシリコンTFT素子作製の超低温化に関する研究
- 2004 - 2005 低コスト、高性能化に向けた新規TFTプロセスの開発
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Papers (204):
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Masahiko Hasumi, Toshiyuki Sameshima, Tomohisa Mizuno. Passivation of cut edges of crystalline silicon by heat treatment in liquid water. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. SK. SK1022-SK1022
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Tomoyoshi Miyazaki, Ryota Seki, Takuma Uehara, Takuji Arima, Masahiko Hasumi, Go Kobayashi, Izumi Serizawa, Toshiyuki Sameshima. Development of Microwave-Induced Rapid Heating System Using Wireless Carbon Heating Tubes. Proceedings of AM-FPD 2020 - 27th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices: TFT Technologies and FPD Materials. 2020. 7-10
-
Tomohisa Mizuno, Rikito Kanazawa, Takashi Aoki, Toshiyuki Sameshima. SiC quantum dot formation in SiO2 layer using double hot-Si+/C+-ion implantation technique. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2020. 59
-
Toshiyuki Sameshima, Tomokazu Nagao, Erika Sekiguchi, Masahiko Hasumi. Argon Precursor Ion Implantation Used to Activate Boron Atoms in Silicon at Low Temperatures. IEEE ACCESS. 2020. 8. 72598-72606
-
TOSHIYUKI SAMESHIMA, T. Kikuchi, T. Uehara, T. Arima, M. Hasumi, T. Miyazaki, G. Kobayashi, I. Serizawa3. MICROWAVE RAPID HEATING SYSTEM USING CARBON HEATING TUBE. Proceedings 17th International Conference on Microwave and High Frequency Heating. 2019
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MISC (3):
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宮崎智由, 宮崎智由, 鮫島俊之, 齋藤宗平, 小野寺航, 上原琢磨, 有馬卓司, 蓮見真彦, 小林剛, 芹澤和泉, et al. Activation of Phosphorus Implanted Silicon Substrate with a Diameter of 300 mm by a Heating System using a Wireless Lamp as the Heat Source. 電子情報通信学会論文誌 C(Web). 2023. J106-C. 1
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Experimental Study on EL Device in Visible/IR Regions Using Two-Dimensional SiGe and SiC Layers. 2017. 28. 1. 31-36
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H Watakabe, T Sameshima, H Kanno, T Sadoh, M Miyao. Electrical and structural properties of poly-SiGe film formed by pulsed-laser annealing. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2004. 95. 11. 6457-6461
Books (5):
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薄膜トランジスタ
コロナ社 2008
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Low-Temperature Poly-Silicon Thin Film Transistor for System on Panel
シーエムシー出版 2007 ISBN:9784882316787
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レーザーハンドブック
オーム社 2005 ISBN:4274200353
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THIN FILM TRANSISTORS
Kluwer Academic Publishers 2003 ISBN:1402075065
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レーザー研究第31巻第1号
(社)レーザー学会 2003
Lectures and oral presentations (450):
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Heating equipment with carbon heating used to activate silicon and fabricate its solar cells
(第79回応用物理学会学術講演会 2018)
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Two-Step Ion Implantation used for Activating Boron Atoms in Silicon at 300°C
(22nd International Conference on Ion Implantation Technology 2018)
-
Carbon Heating Tube Used for Rapid Heating System for Semiconductor Annealing
(Active Matrix Flat Panel Displays 2018)
-
Two-Step Ion Implantation used for Activating Boron Atoms in Silicon at 300°C
(Active Matrix Flat Panel Displays 2018)
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Surface Passivation of Crystalline Silicon by Heat Treatment in Liquid Water and Its Application to Improve the Interface Properties of Metal-Oxide-Semiconductor Structures
(Active Matrix Flat Panel Displays 2018)
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Works (19):
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加熱水処理表面パッシベーション研究開発
2014 - 2015
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蓄電型多接続ソーラーセル研究開発
2013 - 2015
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酸素ラジカル処理表面パッシベーション研究開発
2012 - 2015
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マイクロ波加熱結晶化活性化研究開発
2012 - 2015
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新規MIS型ソーラーセル研究開発
2010 - 2015
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Education (2):
- - 1980 Shizuoka University Graduate School, Division of Natural Science 物理学専攻
- - 1978 Nagoya University Faculty of Science 物理学科
Professional career (2):
Work history (6):
Awards (1):
Association Membership(s) (2):
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