Mori Yoshihiro

モリヨシヒロ | Mori Yoshihiro

Affiliation and department：
Job title： Professor

Research field (2)： Business administration , Analytical chemistry

Research keywords (3)：イノベーション・マネジメント , 技術経営 , 標準化

Research theme for competitive and other funds (2)：

Papers (26)：

Tsugufumi Matsuyama, Yudai Tanaka, Yoshihiro Mori, Kouichi Tsuji. High-accuracy total reflection X-ray fluorescence analysis for determining trace elements using substrate cleaned by ammonia-hydrogen peroxide mixture. Talanta. 2023. 265. 124808-124808
Mori Yoshihiro, Kita Toshiro. Engineers’cognitive biases against emerging technologies. Business Model Association Journal. 2021. 21. 1. 15-29
Hikari Takahara, Yoshihiro Mori, Harumi Shibata, Ayako Shimazaki, Mohammad B. Shabani, Motoyuki Yamagami, Norikuni Yabumoto, Kazuo Nishihagi, Yohichi Gohshi. Vapor phase treatment-total reflection X-ray fluorescence for trace elemental analysis of silicon wafer surface. Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy. 2013. 90. 72-82
Hikari Takahara, Yoshihiro Mori, Ayako Shimazaki, Yohichi Gohshi. Method and mechanism of vapor phase treatment-total reflection X-ray fluorescence for trace element analysis on silicon wafer surface. Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy. 2010. 65. 12. 1022-1028
Yoshihiro Mori, Kenichi Uemura, Hiroshi Kohno, Motoyuki Yamagami, Yoshinori Iizuka. Sweeping-TXRF: A nondestructive technique for the entire surface characterization of metal contaminations on semiconductor wafers. IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 2005. 18. 4. 569-573

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MISC (18)：

森良弘. 10人の会社が自社ブランドで半導体業界に挑む - 有限会社NAS技研 -. 同志社ビジネスケース 23-01. 2024
森良弘. 研究者をたずねて技術者の『認知バイアス』を解明しビジネスを成功に導くイノベーションマネジメント. 同志社大学リエゾンオフィスニューズレター LIAISON. 2023. 70. 13-14
森良弘. 分析化学から経営学へ. ぶんせき. 2023. 8. 330
Yoshihiro Mori, Toshiro Kita. IMPACT OF COGNITIVE BIASES IN TECHNOLOGICAL DECISION-MAKING. Proceedings of 23rd CINet Conference. 2022. 371-380
江場宏美, 国村伸祐, 篠田弘造, 永谷広久, 中野和彦, 保倉明子, 松林信行, 森良弘, 山本孝. 2012年X線分析関連文献総合報告. X線分析の進歩. 2013. 44. 41-72

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Patents (73)：

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Books (6)：

シリコン結晶技術 -成長・加工・欠陥制御・評価-
2014
機器分析の事典
朝倉書店 2005 ISBN:9784254140699
X-ray spectrometry : recent technological advances
John Wiley 2004 ISBN:9780471486404
超精密ウェーハ表面制御技術
サイエンスフォーラム 2000 ISBN:4916164342
シリコンウェーハの洗浄と分析
リアライズ理工センター 1998 ISBN:4898080057

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Lectures and oral presentations (20)：

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Education (4)：

Professional career (3)：

Work history (10)：

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Committee career (17)：

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Awards (4)：

2007/07 - Siltronic Inventor Award 2007 "Most active inventor"
2006/12 - Semiconductor Equipment and Materials Institute (SEMI) Technical Committee Award 2006 "Outstanding achievement in the advancement of SEMI International Standards"
2004/09 - ISSM2004 Best Paper Award "Sweeping-TXRF: A Nondestructive Technique for the Entire-Surface Characterization of Metal Contaminations on Semiconductor Wafers"
2002/09 - 日本分析化学会奨励賞 "全反射蛍光X線分析用シリコンウェーハ標準試料の開発と応用"

Association Membership(s) (4)：

組織学会 , 日本ビジネスモデル学会 , 応用物理学会 , 日本分析化学会

※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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