超音波洗浄方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人深見特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012118633
Publication number (International publication number)：2013247183
Patent number：5894858
Application date： May. 24, 2012
Publication date： Dec. 09, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】気体が溶存された液体に超音波を照射することにより前記液体中の洗浄対象物を洗浄するための超音波洗浄方法であって、前記気体が溶存された過飽和の状態の前記液体を準備する工程と、ソノルミネッセンスが発生していない状態で前記液体に前記超音波を照射する工程と、外部から前記液体に導入された気泡が前記超音波により分散することをきっかけとして、前記液体に溶存した前記気体を含む気泡が発生し続け、かつソノルミネッセンスが発生している状態を実現する工程と、前記気体を含む気泡が発生し続け、かつソノルミネッセンスが発生している状態において前記洗浄対象物を洗浄する工程とを備えた、超音波洗浄方法。

IPC (2)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) , B08B 3/12 ( 200 6.01)

FI (2)：

H01L 21/304 642 E , B08B 3/12 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

超音波洗浄処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-119037 Applicant：東京エレクトロン株式会社
基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-276493 Applicant：株式会社東芝
キャビテーション気泡観察装置およびキャビテーション気泡観察方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-246865 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

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